株式会社サーマルブロック
最終更新日:2021-02-03 14:27:03.0
極低温実験装置 設計・製造サービス
基本情報極低温実験装置 設計・製造サービス
極低温実験装置・高真空装置なら当社にお任せください!
当社では、極低温実験装置・高真空装置の設計・製造を行っております。
主に多種多様な種類の液体ヘリウムクライオスタットや、半導体デバイスの
温度依存性を評価する装置など、お客様のご要望に合わせた製作をいたします。
ご要望の際は、お気軽にお問合せください。
【取扱品目】
■液体窒素クライオスタット
■液体ヘリウム(LHe)クライオスタット
■GM冷凍機システム
■プローバーシステム
■ガスハンドリングシステム など
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
極低温実験装置 設計・製造サービス
当社では、極低温実験装置・高真空装置の設計・製造を行っております。
主に多種多様な種類の液体ヘリウムクライオスタットや、半導体デバイスの
温度依存性を評価する装置など、お客様のご要望に合わせた製作をいたします。
ご要望の際は、お気軽にお問合せください。
【取扱品目】
■液体窒素クライオスタット
■液体ヘリウム(LHe)クライオスタット
■GM冷凍機システム
■プローバーシステム
■ガスハンドリングシステム など
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。 (詳細を見る)
液体ヘリウムトランスファーチューブ
当社では、沸点が4.2K(-269℃)の超低温液体「液体ヘリウム」を
容器から実験装置(クライオスタット)へ移送する特別な移送管
『液体ヘリウムトランスファーチューブ』を取り扱っております。
また様々なトランスファーチューブを製作しており、リジットタイプ・
フレキシブルタイプ・途中脱着タイプ等がありますので、
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【ラインアップ】
■リジットタイプ
■フレキシブルタイプ
■途中脱着タイプ
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。 (詳細を見る)
磁場分布測定装置
当社では、電磁石間や、超電導バルク体の磁束トラップ状態等を高速に
スキャニング可能な『磁場分布測定装置』を取り扱っております。
磁場分布はコンピューターソフトで3次元にグラフィック化され
磁場分布状態が即座に確認出来ます。
磁場測定にはホール素子を使用し、極低温状態でもスキャニング可能です。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【基本仕様】
■移動範囲:X、Y軸 ±50mmまたは±100mm Z軸 ±50mm
■構造:5相ステッピングモーター付き
専用アクチュエーター
■操作分解能:0.1mm
■操作プローブ:FRP支持 ホール素子
■ソフトウェアー:シグマ光機製 SGEMCSまたは当社オリジナルソフト
PC及びPCI/GPIBカード付属
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。 (詳細を見る)
液体ヘリウムクライオスタット
当社では、液体ヘリウムを専用のトランスファーチューブで
容器から移送し様々な実験を行う事を目的とした
『液体ヘリウムクライオスタット』を取り扱っております。
超電導マグネットの冷却をはじめ、引っ張り・圧縮試験などの
テストピース冷却などにご使用いただけます。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【基本仕様】
■冷却方式:液体窒素シールド(マルチシールド製作可能)
■冷却寒剤:液体ヘリウム
■主要母材:SUS、AL、GFRP
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液体窒素リザーバー型光学用クライオスタット
当社では、フォトルミネッセンスや光半導体等の評価及び光学的測定を
サポートする『液体窒素リザーバー型光学用クライオスタット』を
取り扱っております。
液体窒素の消費量を抑える為、トップフランジに、ニードルバルブを設けて
適量の液体窒素がサンプルホルダーへ流れ込む構造になっており、
サンプルホルダーに取付けたヒーターで温度コントロールを行います。
【基本仕様(一部抜粋)】
■最低到達温度:80K以下
■冷却方式:液体窒素リザーバー型
■温度コントロール範囲:80K~450K
■温度コントロール精度:±0.1K以内
■冷却温度:80Kまで約30分
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3Heガスハンドリングシステム
当社では、貴重な3Heガスを密閉型ポンプで、バッファタンクへ閉じこめる
『3Heガスハンドリングシステム』を取り扱っております。
液体の4Heを減圧して1~1.5Kの低温度を作り、3Heガスを熱接触させ液化。
液化した3Heを断熱状態で減圧すると0.3K程度まで冷却する事が出来ます。
また、お客様の仕様に合わせて設計・製作も行っております。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【特長】
■多種・多様なガスハンドリングシステムを製作
■お客様の仕様に合わせて設計・製作
■ガス配管はリークディテクターでリークがない事を確認して出荷
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LHe連続フロー型光学用クライオスタット
当社では、液体ヘリウムを連続フロー(吹き付け)させてサンプルを冷却する
『LHe連続フロー型光学用クライオスタット』を取り扱っております。
フォトルミネッセンス測定や光半導体の評価等、光学的測定をサポート。
光導入窓の大きさはφ5~φ50mmまで対応可能。
窓材質は石英ガラスが標準で、他の材質にも対応出来ます。
【基本仕様】
■最低到達温度:4.2K以下
■冷却方式:液体ヘリウム(オプションユニットで液体窒素使用可能)
■温度コントロール範囲:4.2K~300K
■温度コントロール精度:設定温度に対して±0.1K以内
■冷却時間:最低到達温度まで約40分
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。 (詳細を見る)
電子顕微鏡用LHe冷却装置
当社では、CL(カソードルミネッセンス)用に開発された
『電子顕微鏡用LHe冷却装置』を取り扱っております。
液体ヘリウム連続フロー式クライオスタットの技術を応用。
電子顕微鏡は振動を嫌う為、ヘリウムの供給及び戻りのラインに細い
ステンレス管を使用しており、外部からの振動を除去します。
さらに冷却によるサンプルホルダーの膨張・収縮を最低限に抑える為、
熱交換器全体にヒーターを取付け、温度コントロール時の膨張・収縮を
抑えた構造にしております。
【基本仕様】
■最低到達温度:10K以下
■温度コントロール範囲:10K~300K
■温度コントロール精度:±0.1K
■冷却時間:最低到達温度まで約60分(安定時まで)
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極低温プローバーシステム
当社では、半導体デバイスの温度依存性を評価する
『極低温プローバーシステム』を取り扱っております。
冷却方式として、液体窒素冷却法・液体ヘリウムリザーバー法・
液体ヘリウムフロー法・冷凍機法の、どの方法にも対応可能。
お客様の使用目的・仕様に合わせて設計・製作いたしますので
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【基本仕様(当社で対応できる仕様範囲)】
■最低到達温度:4.2K以下
■温度コントロール範囲:4.2K~450K程度
■温度コントロール精度:設定温度に対して±0.1K
■信号取出用コネクター:BNC、SMA、TXA等
■プローバー可動範囲:□20mmをカバー
※オプションにて磁極間測定も可能です。
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。 (詳細を見る)
4K冷凍機冷却型クライオスタット
当製品は、4K冷凍機を使用したクライオスタットです。
サンプルホルダーはヘリウムガス雰囲気中にあり、ガス伝導にてサンプルを
冷却します。サンプルホルダーのアクセス径を広く確保しておりますので、
大型サンプルの冷却をすることが可能です。
またトップロード機構を採用しておりますので、冷却した状態でサンプルの
交換を素早く行う事が出来ます。
【特長】
■4K冷凍機を使用
■サンプルホルダーのアクセス径を広く確保
■大型サンプルの冷却をすることが可能
■トップロード機構を採用
■液体ヘリウムを再凝縮するシステムも製作可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 (詳細を見る)
GM冷凍機型電磁用クライオスタット
当製品は、20KGM冷凍機を使用した電磁石挿入型クライオスタットです。
磁気抵抗測定、ホール効果測定、超電導体の臨界温度・臨界磁場測定等、
磁場中での幅広い物性測定が可能。
また、0~90°まで回転可能で、特別な架台を使用することなく、電磁石に
設置する事が出来ます。さらにテール部に光学窓を取付ける事も可能で、
カー効果測定等にも対応致します。
【特長】
■20KGM冷凍機を使用
■磁場中での幅広い物性測定が可能
■0~90°まで回転可能
■特別な架台を使用することなく、電磁石に設置する事が出来る
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高真空排気システム(高真空排気セット)
サーマルブロックでは『高真空排気システム(高真空排気セット)』を
取り扱っております。
「新規に製作したい。」「真空計を追加したい。」
「ロータリーポンプは手持ちがあるので流用したい。」
「ターボシステムで祖引き出来る様、改造したい。」等々、
お客様のニーズに合わせ、設計・製作致します。
是非お問い合わせ下さい。
【このようなご要望に】
■A社のターボ分子ポンプを使い、B社のロータリーポンプを使いたい
■真空計を追加したい
■大型排気装置をコンパクトにしたい
■規格セットのポンプを交換したい
■とにかく安価に作りたい など
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 (詳細を見る)
取扱会社 極低温実験装置 設計・製造サービス
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