【分析事例】半導体プロセスガスモニタリング UHV

飛行時間型高分解能質量分析計で、プロセスガスのin-situモニタリング！

半導体プロセスには結晶成長(エピタキシャル成長)、成膜(CVD,ALD)、
エッチング、クリーニングなど様々な工程があります。
また、これらのプロセスでは多種の原料ガスが使われております。

プロセスチャンバー内における反応生成物、分解物、残留成分を
リアルタイムでモニタリングすることにより、歩留りの向上、生産性の向上、
さらには次世代に向けた半導体研光開発に貢献することができます。

高分解能を有し、リアルタイム測定が可能な質量分析装置であるカノマックスの『infiTOF』は、より高品質な製品の研究・開発・製造をサポートします。

【ソリューション】
■プロセスガスのリアルタイム測定
■現場測定に対応したポータビリティー

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。