化学薬品の代わりに水蒸気を使った洗浄機「蒸気2流体洗浄装置」

半導体業界から生まれた新技術！蒸気を超音速で噴射することで「汚れ」を除去！薬品を使わないので、廃液処理が簡単で低コストを実現！

蒸気2流体洗浄装置は上記を超音速で噴射することで発生する衝撃波（キャビテーション）とせんだん力により汚れや微小異物を除去します。
また、薬品を使わないので廃液処理が簡単で、低コストを実現します。

【特徴】
■蒸気を高音速で噴射して汚れを除去
■薬品を使わないので、廃液処理が簡単で低コストを実現
■水のみで洗浄するので環境に配慮し安全
■非接触なので消耗品が少ない
■油性マジックも除去可能

【応用・実績例】
■フォトレジストの剥離（半導体、LED）
■ポリマー及びパーティクル除去（半導体）
■金膜のリフトオフ（半導体、LED）
■研磨後の洗浄（半導体、樹脂加工）
他

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