UVオゾンクリーナー

『UVオゾンクリーナー』は、ダメージフリーの乾式洗浄法で、基板に付着
している有機汚染物質を、光化学的酸化分解プロセスによって除去できます。

洗浄室内が0.02MPaの加圧状態に保持することができる安心の密閉構造です。

また、その他の機種では標準装備のオゾンキラー（オゾン分解装置）に
接続することで、外部へのオゾン漏れを防ぎます。

【特長】
■超音波洗浄だけでは除去できなかった基板上の有機汚染物質を容易に除去
■湿式洗浄で使用した有機溶剤も除去
■基板表面に損傷を与えないで、有機汚染物質の除去が可能
■薄膜の製膜が容易
■大気圧で使用可能な、真空装置不要のドライクリーニング装置

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）