カタログ発行日：2021/4/2

【分析事例】Si酸化膜の膜厚評価_C0022

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基本情報【分析事例】Si酸化膜の膜厚評価_C0022

酸素量（O面密度）からSi酸化膜の膜厚を算出

ゲート絶縁膜の成膜プロセス、酸化膜のエッチングプロセスなどを最適化するため、界面の酸化膜厚を数値で評価することは不可欠です。
ここでは、SIMSを用いてPoly-Si膜中の不純物深さ方向分析を行うのと同時に測定した酸素（O）の情報から、界面の酸化膜厚を評価した事例を紹介します。TEMとSIMSそれぞれから計算された膜厚には相関があります。

【分析事例】極薄SiON膜の組成・膜厚評価

シリコンウエハ上の自然酸化膜・シリコン酸窒化薄膜など、厚さ数nm以下の極薄膜について、サンプル最表面のSi2pスペクトルを測定します。得られたスペクトルの波形解析を行うことにより、各結合状態の存在割合を求め、この結果と光電子の平均自由行程から膜厚を見積もります（式１）。（詳細を見る）

取扱会社【分析事例】Si酸化膜の膜厚評価_C0022

一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

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