【技術情報】MOE: Reverse Fingerprint Modeling の紹介

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基本情報【技術情報】MOE: Reverse Fingerprint Modeling の紹介

化合物の分子フィンガープリントと活性値の情報を用いて、重要な部分構造の特定やファーマコフォアの定義が可能

Reverse Fingerprint Modeling は、統合計算化学システム『MOE』のアドオンプログラムです。
分子構造を表現する分子フィンガープリントを利用し、活性化合物に重要な原子団の特定、ファーマコフォアモデルの定義等を行うことができます。

【技術情報】統合計算化学システム『MOE』

「Reverse Fingerprint Modeling」は、MOEユーザーコミュニティーのための
SVLコード交換サイトSVL Exchangeで公開されている統合計算化学システム
MOEのアドオンプログラムです。

化合物のさまざまな分子フィンガープリントと活性値の情報を用いて、
活性化合物に共通の部分構造や活性/不活性に寄与する部分構造を特定したり、
ファーマコフォアモデルを構築/評価したりできます。

当資料では、「Reverse Fingerprint Modeling」の概要と4つの機能を
紹介しています。

【掲載内容】
■Reverse Fingerprint Modelingの概要
■Motif Detection
■Virtual Pockets
■Fragment Placement
■Activity Scan
■まとめ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。（詳細を見る）

取扱会社【技術情報】MOE: Reverse Fingerprint Modeling の紹介

株式会社モルシス

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