【導入事例】ヴァイサラがタングステンのCMPでの過酸化水素濃度の計測において、多くの半導体工場から選ばれる理由

基本情報【導入事例】ヴァイサラがタングステンのCMPでの過酸化水素濃度の計測において、多くの半導体工場から選ばれる理由

CMP（化学機械研磨）は、化学反応と機械的摩耗を組み合わせた重要なナノ研磨プロセスですが、非常にコストがかかるうえ困難なプロセスでもあります。そして、集積回路の製造における重要なプロセスであり、生産量と生産性の両方に影響を与えます。

・産業用計測器(湿度温度計、露点計、CO2計、気圧計、風向風速計、現在天気計) ・地上気象観測システム・高層気象観測システム

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ヴァイサラ株式会社