株式会社エイチ・ティー・エルHTL（エイチティーエル）
最終更新日：2023-07-18 09:20:32.0
GEMStar和文カタログ_HTL202209
卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積（ALD）装置
テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。
直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。
酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。
4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド
最大300°Cまで調整可能なリアクター(反応器)温度
低蒸気圧用の材料供給加圧アシスト機能付き
試料ステージは直径200mm基板まで選択可能
450℃加熱ステージも選択可能
Arradiance GEMFlowソフトウェアは、
扱いやすく、成膜レシピの作成も簡単に行えます。
温度、ガス流量、高速ALDバルブ、高周波(RF)パワー、
真空隔離など、すべての主要な動作パラメータを制御。
診断システムとログにより、操作中のすべてのシステム・パラメータが追跡可能
RGIP（Reactor Gas Injection Protocol）について
ガスポート監視インターロック機能を備えています。
（詳細を見る）
取扱会社 GEMStar和文カタログ_HTL202209
【装置販売とサービス】 【3DP事業部】 ■3Dプリンタ金属積層造形装置 ■3Dプリンタ金属パウダ 【マスク事業部】 ■半導体製造・検査装置 ■FPD/マスク製造・検査装置 ■MEMS/ LED/ NanoTech製造・検査装置、関連製品 ■原子層堆積装置 (ALD: Atomic Layer Deposition) 【ソフトウェア開発】 ■製造・検査装置など組込機器・システム装置のソフトウエア開発 （オフショア・オンサイト）
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