GEMStar和文カタログ_HTL202209

テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。

直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。
酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。

4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド
最大300°Cまで調整可能なリアクター(反応器)温度
低蒸気圧用の材料供給加圧アシスト機能付き
試料ステージは直径200mm基板まで選択可能
450℃加熱ステージも選択可能

Arradiance GEMFlowソフトウェアは、
扱いやすく、成膜レシピの作成も簡単に行えます。
温度、ガス流量、高速ALDバルブ、高周波(RF)パワー、
真空隔離など、すべての主要な動作パラメータを制御。
診断システムとログにより、操作中のすべてのシステム・パラメータが追跡可能

RGIP（Reactor Gas Injection Protocol）について
ガスポート監視インターロック機能を備えています。
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