【技術資料】真空紫外光照射によるゾル－ゲル薄膜の改質

均一な組成をもつコーティング膜を得る方法として有力なゾル－ゲル法は、
ゲル膜からの水分の除去や有機成分の分解には、通常、数百℃の熱処理を
要するため耐熱温度の低いプラスチック上に強固な膜を得るのは難しいです。

そこで、真空紫外（VUV）光を用いた光量子（フォトン）プロセスは、照射に
よる熱過程をともなわずに、光子の作用のみで原子の結合を切断できるため、
薄膜の改質にも応用できると考えられます。

当資料では、ゾル－ゲル法により調整した酸化ニッケル薄膜に、実用的な
光源として開発されてきたエキシマランプを用いてVUV光を照射したときの
状態変化について紹介しております。

【掲載内容】
■はじめに
■実験
■結果と考察

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