IBSコート光学系 ::::: 高反射・高LIDT・広帯域290-470nm ウルトラファーストミラー

メーカー：Optoman（リトアニア）

OptomanのIBSコートミラーは特定波長・入射角において、最大反射率>99.998%、トータルロス（吸収、散乱、透過）<15ppmという仕様が可能です。
高純度の石英ガラス（平面、球状またはウェッジ状）にコーティングされ、粗さ<2Å（0.2nm）まで研磨します。バルクに近い濃密なコーティングは温度や湿度などの環境要因によるパフォーマンスの低下が非常に少ないです。非常に高い反射率を誇る複雑なコーティングはGTIレーザーミラーだとR>99.95%、薄膜ポラライザだとTp/Ts >10000:1を実現できます。 （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 （詳細を見る）

◆IBS（Ion-Beam Sputtering）コートにより長寿命、高い損傷閾値、低吸収、高面精度、厳密なスペクトル要求を実現。
◆ミラーやレンズからビームスプリッタ、マルチ波長、偏波ポラライザで様々なカスタムニーズに対応。
・損傷閾値
　>80J/cm2, 1030nm, 10ns
　>30kW/cm (>900kW/cm2), 1070nm CW
　>0.3J/cm2, 1030nm, 50fs, 150kHz
・超高反射ミラー　R >99.998%
・超高精度薄膜ポラライザ　Tp/Ts ratio >10000:1
・超低吸収コーティング　<1ppm
・対応波長レンジ　220nm - 5000nm （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

紫外線波長レンジにおいて高い反射率を実現するにあたり、散乱・吸収のロスはうまく制御する必要があります。UVレーザーユーザーにとっては、ミラーの劣化は大きな問題です。Optomanは表面品質と最適化したコーティング技術に注目しました。この技術によりUVレーザーから光学系を保護し、寿命を延ばします。 （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

OPTOMANは最先端で高精度、高再現性のIBS（イオンビームスパッタリング）薄膜コーティングを施したレーザー光学系を2017年より手掛けています。創業時からの活動によりOPTOMANは「ウルトラファーストレーザー光学系」「高LIDT（損傷閾値）・長寿命」「堅牢で環境に左右されないコーティング」「超低ロスコーティング」「迅速で柔軟なプロトタイピング」のイメージを確立しました。絶えず品質および信頼性の改善を繰り返していくことがOPTOMANの最大の強みであり、最終的にユーザーの皆様は優れた製品をローコストで享受することができます。

経験豊富なスタッフと革新的なIBS技術により、ハイレベルの開発が可能です。斬新的な管理と自動化プロセスは、数百に及ぶレイヤーの複雑な組成の蒸着を実現しました。光スペクトル制御の利点は「高コントラスト」「再現できる性能」「少ない公差」などがあります。ISO-6のクリーンルーム環境により、OPTOMANは高品質の光学系を開発製造しています。 （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

紫外線波長レンジにおいて高い反射率を実現するにあたり、散乱・吸収のロスはうまく制御する必要があります。UVレーザーユーザーにとっては、ミラーの劣化は大きな問題です。Optomanは表面品質と最適化したコーティング技術に注目しました。この技術によりUVレーザーから光学系を保護し、寿命を延ばします。

◆仕様◆
Material: UVFS
Diameter: 12.7 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm
Clear aperture, CA: min. 10 mm
Surface quality, S1: 10-5 S-D over CA as per MIL
Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over CA
Coatings (IBS):
S1 (arrow marks): HRsp>99.7% @ 355 nm, AOI=32 - 45 deg
S2: Uncoated （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: UVFS
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.0 mm +/-0.1 mm
Coatings (IBS, S1 T understood as S1+S2 performance):
S1 (arrow marks): HRs>99% @ 345 - 420 nm + HTp>95% @ 690 - 840 nm + 1500 - 2000 nm + HTs>80% @ 1380 - 1700 nm, AOI=60 deg
Low GDD Rs <30 fs² @ 345 - 420 nm, AOI=60 deg
S2: ARp @ 690 - 840 nm + ARs @ 1380 nm - 1700 nm, AOI=60 deg （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrates material: IRFS (Corning 7978 0F)
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 2.0 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 20 mm
Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D per CA
Transmitted WFD: <λ/8@633 nm per CA
Protective chamfers: 0.2 - 0.4 mm x 45°
Coatings (IBS):
S1: AR_abs<0.3% @ 900 nm - 1160 nm, AOI=0 deg
S2: AR_abs<0.3% @ 900 nm - 1160 nm, AOI=0 deg
GDD (S1+S2+IRFS substrate) <90 fs^2 （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: UVFS (Corning 7980 0F)
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: >80%
Surface flatness, S1: <λ/10 @ 633 nm
Coating (IBS):
S1(arrow marks): HRavg > 99.7% @ 730-870 nm,
HRs > 99.7% @ 685-935 nm, AOI 45 deg
GDD: 0 ±20 fs2 @ 700 - 900 nm, s-pol & 0 ±20 fs2 @ 740 - 860 nm, p-pol
TOD: 10 fs3 @ 800 nm, s-pol & 40 fs3 @ 800 nm, p-pol
S2: SCC （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Material: UVFS
Diameter: 50.8 mm (+0/-0.1 mm)
Thickness: 9.52 mm (+/-0.1 mm)
Clear aperture: >80%
Surface quality, S1: 20-10 S-D
Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over CA
Parallelism: <10 arcmin
Protective chamfer: 0.2-0.5 mm x 45°
Coatings (IBS):
S1 (arrow marks): HRs >99.9 % @ 700 – 900 nm, AOI=45° (|GDDrs| < 20 fss)
S2: SCC （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Material: UVFS
Dimensions: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 20 mm
Surface flatness, S1: <λ/4 @ 633 nm per CA
Coatings (IBS):
S1 (arrow marks): HRa>99.8% @ 1010 - 1050 nm, AOI=0-45°
|GDD R| <20 fs^2 @ 1010 - 1050 nm, AOI=0-45°
S2: Uncoated
LIDT: >0.3 J/cm2, 1030 nm, 100 fs, 100 kHz. >0.7 J/cm2, 1030 nm, 800 fs, 100 kHz （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: UVFS (C7980 0F)
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: >85%
Surface quality, S2: polished
Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm per CA
Surface flatness, S2: NA
Parallelism: <10 arcsec
Protective chamfer: 0.2-0.4 x 45°
Chips: <0.2 mm stoned
Coatings (IBS):
S1: HRp>93%@ 206 nm, AOI=45 deg
S2: Uncoated （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: Corning IRFS 7979 0F
Dimensions: 50x20 mm +0/-0.1 mm
Edge thickness: 5 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 40x15 mm rectangular
Transmitted wavefront distortion: <λ/8@633 nm
Coatings (IBS):
S1: AR<0.2% @ 955-1005 nm, AOI 0-5 deg (CWL 980 nm)
S2: AR<0.2% @ 955-1005 nm, AOI 0-5 deg (CWL 980 nm)
LIDT > 30 kW/cm2
Absorption within coating <= 5 ppm per surface （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: Corning IRFS 7979 0F
Dimensions: 50x20 mm +0/-0.1 mm
Edge thickness: 10 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 40x15 mm rectangular.
Surface irregularity, S1: <λ/8@633 nm over elliptical 40x15 mm CA
Coatings (IBS):
S1(arrow marks): HRa>99.95% @ 955-1005 nm, AOI 45 deg. (CWL 980 nm)
S2: uncoated
LIDT > 30 kW/cm2
Absorption within coating <= 5 ppm per surface （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrates material: IRFS (Corning 7978 0F)
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 2.0 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 20 mm
Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D per CA
Transmitted WFD: <λ/8@633 nm per CA
Coatings (IBS):
S1: AR_abs<0.3% @ 900 nm - 1160 nm, AOI=0 deg
S2: AR_abs<0.3% @ 900 nm - 1160 nm, AOI=0 deg
GDD (S1+S2+IRFS substrate) <90 fs^2
LIDT: high power applications （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: UVFS
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 20 mm
Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over X mm CA
Chips: <0.2 mm stoned
Coatings (IBS):
S1 (arrow marks): HRs > 99.5% @ 266 nm + Rp<2%; Rs<10% @ 532 nm + Rp<2%;
Rs<10% @ 1064 nm, AOI 45 deg.
S2: Uncoated
LIDT and lifetime enhanced design (ns pulse applications) （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Material: UVFS (Corning 7980 0F)
Diameter: 25.4 mm (+0/-0.1 mm)
Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm)
Coated CA: >80%
Coated surface quality, S1/S2: 20-10 S-D
Coated surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over 8 mm CA
Parallelism: <10 arcsec
Protective chamfers: 0.1-0.4 mm x 45 deg
Chips: <0.2 mm
Coatings (IBS):
S1: HRs > 99.9% , HRp > 99.9% @ 1030 nm, |GDDr ~ 0 fss| AOI 45 deg
S2: uncoated （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: UVFS
Dimensions: 49.0 mm +0/0.1 mm
Thickness: 0.8 mm +/-0.1 mm
Coated area: min 47 mm
Clear aperture: min 25 mm
Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D per CA
Surface flatness, S1/S2: <λ@633 nm
Surface irregularity, S1/S2: <λ/4
Coatings (IBS):
S1: HRa>99.99% @ 1030 - 1070 nm, AOI=45 deg
Low absorption: <10 ppm @ 1064 nm
S2: SCC
LIDT: CW, ns, high average power 4 kW （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Material: UVFS (C7980 0F)
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 20 mm
Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D over CA
Surface flatness, S1/S2: <λ/8@633 nm over CA
Protective chamfers: <0.1-0.4 mm x 45 deg
Coatings (IBS):
S1 (arrow marks): HRs>99.7%@1064 nm + HTp>98%@1064 nm, AOI= 44-46 deg
S2: ARp<0.1%@1064 nm, AOI= 44-46 deg
LIDT enhanced design （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Material: UVFS (C7980 0F)
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 20 mm
Surface quality, S1/S2: 10-5 S-D over CA
Transmitted WFD: <λ/8@633 nm over CA
[Surface flatness, S1/S2: <λ/3@633 nm over CA, λ/8 @ 633 nm
Coatings (IBS):
S1 (arrow marks): Rs>99.99% & Tp>98% @ 1064 nm, AOI=45 deg
Extinction ratio: Tp/Ts~1:10000
S2:ARp<0.05% @ 1064 nm, AOI=45 deg （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: UVFS
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 20 mm
Surface quality, S1: 20-10 S-D
Surface flatness, S1/S2: <λ/8 @ 633 nm over CA
Parallelism: <5 arcmin
Coatings (IBS):
S1: HRs>99.5% @ 257 nm + Rp<1% @ 515 nm, AOI=45 deg
S2: ARp<0.1% @ 515 nm, AOI=45 deg
LIDT and duty cycle optimized （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: UVFS
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: >80%
Surface quality, S1: 20-10 S-D
Surface flatness, S1: <λ/8 @ 633 nm over 20 mm CA.
Parallelism: <10 arcsec
Protective chamfers: 0.1-0.4 mm x 45 deg
Coatings (IBS):
S1: HRs > 98.5% @266 nm & HRp > 97.5%@ 266 nm, AOI=45 deg
S2: Uncoated （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Ultrafast Broadband Mirror
Material: UVFS
Dimensions: 25.4 mm (+0/-0.1 mm)
Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm)
Clear aperture: >80%
Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D per CA
Surface flatness, S1/S2: <λ/6@633 nm
Coatings (IBS):
S1: HRs>99.95% & HRp>99.9%@ 980 - 1080 nm, AOI=45 deg
|GDD Rs|<30 fs^2@960-1100 nm, |GDD Rp|<30 fs^2@ 990-1070 nm
S2: SCC （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Material: UVFS
Diameter: 20.0 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 5.0 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 18 mm
Surface flatness, S1/S2: <λ/6 @ 633 nm per CA
Coatings (IBS):
S1 (arrow marks): HRs_avg>99.5% @ 610 nm - 1040 nm, AOI=45 deg
GDD Rs -30 fs^2 +/- 80 fs^2 @ 610 nm - 1040 nm, AOI=45 deg
S2: SCC
LIDT: ~500 GW/cm2 (30-150 fs, Dia3 mm, 2 MHz, 300 uJ) （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Material: UVFS
Dimensions: 25.4 mm (+0/-0.1 mm)
Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm)
Clear aperture: >80%
Surface quality, S1: 20-10 S-D per Clear aperture (80%)
Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm per Clear aperture (80%)
Coating (IBS)
S1: Rs>99.95% & Rp>99.9% @ 500 - 530 nm, AOI=45 deg
|GDD Rs, Rp|<20 fs2 @ 500 - 530 nm, AOI=45 deg
S2: Uncoated
LIDT: >0.1 J/cm2, 515 nm, 100 fs （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Material: UVFS (Corning 7980 0F)
Diameter: 25.4 mm (+0/-0.1 mm)
Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm)
Coated CA: >80%
Coated surface quality, S1/S2: 20-10 S-D
Coated surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over 8 mm CA
Protective chamfers: 0.1-0.4 mm x 45 deg
Chips: <0.2 mm
Coatings (IBS):
S1: HRsp > 99.8% @ 1030 nm + 515 nm |GDDr ~ 0 fss| @ 1030 nm + 515 nm, AOI 45 deg
S2: uncoated （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Material: UVFS (Corning 7980 0F)
Diameter: 50.8 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 8.0 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 46 mm
Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D over CA
Transmitted WFD: <λ/10@633 nm over CA
S1 (arrow marks): HRs>99.9+HRp>98% @ 1030 nm + HTp>95 (97% best effort) @ 1064
nm, AOI=45+/-1 deg absorption coating (<35ppm)
S2: ARp<0.1% @ 1064 nm, AOI=45 deg （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Material: UVFS
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 20 mm
Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D over CA MIL-PRF-13830B
Surface flatness, S1/S2: <λ/6 @ 633 nm
Coatings (IBS):
S1 (arrow marks): HRs>99.5% @ 780 nm + HTsp>98% @ 1230-1300 nm, AOI=45°
S2: ARsp<0.8% @ 1230-1300 nm, AOI=45°
LIDT info: 5mJ @ 1ps, 1kHz, 780nm, 1230-1300nm, beam dia mm 5mm （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: UVFS (C7980)
Diameter: 12.7 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 2.0 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: >90%
Surface quality, S1/S2: 10-5 S-D per CA 10 mm according to MIL-PRF-13830B
Surface flatness, S1/S2: <λ@633 nm
Protective chamfer: 0.2-0.3 x 45°
Coatings (IBS):
S1 (arrow marks): HRsp_avg>98%@1055-1580 nm + HTp_avg>95%@765-1010 nm, AOI=17°
S2: ARp<0.2%@765-1010 nm, AOI=17° （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: UVFS
Diameter: 50.8 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 9.52 mm +/-0.1 mm
Clear aperture : min. 40 mm
Surface quality, S1: 20-10 SD (as per MIL PRF-13830B)
Surface flatness, S1: λ/6 @ 633 nm over any 25 mm aperture within CA
Surface S2: inspection polished (80-50 SD)
Parallelism: <5 arcmin
Coatings (IBS):
S1 (arrow marks): HRs>99.9% @ 1064 nm, AOI 45 deg
S2: uncoated （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: UVFS
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 20 mm
Surface flatness, S1: <λ/4 @ 633 nm
Coating (IBS):
S1(arrow marks): HRs avg > 99.6% @ 290-470 nm, AOI 45 deg, GDD optimized
S2: Uncoated
LIDT info: ~1W, 8 fs, 100 kHz, 10-15mm (Gaussian), vacuum environment （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Material: UVFS (Corning 7980 0F)
Diameter: 12.7 mm (+0/-0.1 mm)
Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm)
Clear aperture: >87%
Surface quality, S1/S2: 40-20 S-D
Surface flatness, S1: <λ/4@633 nm per CA
Parallelism error: <10 arcsec
Protective chamfers: 0.1-0.4 mm x 45°
Coatings (IBS):
S1: HRa>99.5% @ 257 nm + HTa>92% @ 515+1030 nm, AOI=42-48°
S2: ARa<0,85% @ 515 + 1030 nm, AOI=42-48° （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Material: UVFS, Corning 7980 0F
Diameter: 25.4 mm +0/-0,1 mm
Thickness: 3 mm +/- 0,1 mm
Clear Aperture: >80%
Surface quality, S1/S2: 10-5 SD over CA (MIL-PRF-13830B)
Surface flatness, S1: λ/8 @ 632.8 nm over CA
Coatings (IBS):
S1 (arrow marks): HR>99% @ 376-425 nm + HT>98% @ 700-900 nm, AOI 45 deg
GDDr +/- 20 fs2@ 376-425 nm
S2: AR<1% @ 700-900 nm + SCC for improved S1 flatness. （詳細を見る）

メーカー：Optoman（リトアニア）

最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

◆仕様◆
Substrate material: UVFS
Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm
Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm
Clear aperture: min 20 mm
Coated area: min 23 mm
Coatings (IBS):
S1: ARsp<0.6% @ 940 nm, AOI=45 deg
S2 (arrow marks): HTsp>98% @ 940 nm, AOI=40-50 deg (cone), HRs>99% @ 1030 nm,
AOI=45 deg
LIDT: >2 J/cm2, s-pol, 100 ps, 1030 nm (as per ISO S-on-1, 200 um beam dia) （詳細を見る）