株式会社真空デバイス本社
最終更新日：2024-11-06 13:29:52.0
ＶＥ－２０１３卓上型高真空蒸着装置02
基本情報ＶＥ－２０１３卓上型高真空蒸着装置
デスクトップ型の真空蒸着装置。 TMP＋RPの排気系により清浄高真空で蒸着可能。
ヒーター電極 ： 1対（2対タイプはオプション。）
蒸着対象金属 ：金・アルミ・クロム・銀・カーボン その他
試料ステージ ： 直径72mm
蒸着源－試料間隔 ： 0mm～140mm
チャンバーサイズ ： 内径160mmｘ深さ235mm
電極間電圧／電流 ： AC15Ｖ、 0～30A タッチパネル表示
排気系：TMP67 ℓ／sec ＋RP 50ℓ／min
真空度測定 ： タッチパネル表示 フルレンジ真空計
到達真空度：5×10-4 Pa 以下
安全対策 ：系統別サーキットプロテクタ、過剰負荷を自動でブロック
装置サイズ ： W428× D430 × H550 (mm) 38Kg
電源 ： 単層AC 100 V, 15A アース線付３芯プラグ使用
取扱会社 ＶＥ－２０１３卓上型高真空蒸着装置
○実験器具・装置の開発 ○電子顕微鏡試料作製の開発、製品化、販売、サービス 〇スパッタ装置、蒸着装置、プラズマ処理装置、プラズマCVD装置、RFスパッタ装置、真空コンポーネント
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