東北大学技術：電子線を用いて透明フィルム上に高易動度のZnO薄膜：T19-673

半導体材料である透明電極の性能改善によるウェアラブル端末のさらなる進化が期待されている。ZnOは代表的な導電性の酸化物であり、透明電極への応用が望まれる。化学気相成長(CVD)・原子層堆積(ALD)・スパッタリング等の薄膜作製法が確立されているが、導電性を損なわずに樹脂などのフレキシブル基材上に形成できないという課題があった。本発明では電子線をZnO粒子に照射することで、優れた導電性と、これまでにない安定した構造を有するZnO薄膜をPET上に作製することが可能となる。 （詳細を見る）