12/21 ヴァイサラWebセミナー開催のお知らせ 「ウェーハ―の品質・歩留まりを最適化するCMPプロセスにおける連続濃度モニタリング」

ヴァイサラでは、12月 21日に Webセミナーを開催致します。
このWebセミナーでは、屈折率計を使用した半導体製造工程におけるCMPプロセス最適化のアプリケーションを解説していきます。半導体製造工程におけるCMPプロセスは、安定した製品品質を保つために、非常に高精度なCMPスラリーの濃度管理が必要になります。気泡の影響を受けることなく、腐食性溶液の測定が可能な計器が欠かせません。屈折率計の原理とヴァイサラ屈折率計の特徴を踏まえ、このようなCMPプロセスにおける使用用途を紹介します。
皆さまのご参加を心よりお待ちしております。

主なトピック
・CMPプロセスとは
・ヴァイサラ屈折率計の特徴の紹介1. 泡・微粒子の影響を受けない液体濃度計測2. 定期的メンテナンスフリー3. 耐腐食性材質のラインアップ
・CMPプロセスにおけるヴァイサラ屈折率計導入事例

このような分野の方にお薦めです︓
半導体製造装置メーカーの技術者、半導体メーカーの品質管理担当者総合設備工事、産業空調、生産施設担当者