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最終更新日:2024/10/15

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掲載開始日:2024/10/15

ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ステージ Max1800℃_Φ2〜Φ6inch

超高温基板加熱機構【ホットステージ】製品参考写真

  • 超高温基板加熱機構【ホットステージ】製品参考写真

ホットステージ製品参考写真_4inch 1200℃

  • ホットステージ製品参考写真_4inch 1200℃

半導体, 電子デバイス等の開発, 真空薄膜プロセス用【高温基板加熱機構】
シリコン基板, サファイア基板, 化合物基板他様々な成膜実験用に活用いただけます。
CVD, スパッタ等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱条件に応じたエレメント、材料の選定が可能
◉ 超高真空・不活性ガス・O2・各種プロセスガス雰囲気に対応
◉ 基板上下/回転機構及びRF/DCバイアス印加可能
◉ 雰囲気に応じたエレメントの選択:
NiCr,
Inconel,
タングステン,
グラファイト,
CCコンポジット, 
グラファイト(SiCコーティング, PBNコーティング)
CCコンポジット(PGコーティング)
◉ 各種真空フランジ接続:ICF, VF
◉ 熱電対付属
◉ その他オプション:モーターコントローラ, 温度制御ユニット, トランスボックス

関連資料

関連リンク

加熱・基板上下昇降・基板回転・RF/DC基板バイアス

取扱会社

テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置

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