【SH 真空 基板加用 高温プレートヒーター_Max 1100℃】CVD, PVD真空薄膜用

テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, PVD等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。
◉ 最高使用温度850℃（SH-IN）、1100℃（SH-BN）
基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品ご要求にも対応致します。
又、ヒーターコントローラは従来の据置型に加え19inchラックマウントも取扱います。