◇◆◇ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◇◆◇

研究開発用のRF/DCマグネトロン式スパッタリング装置です。
高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするコンパクトサイズ、7inch前面タッチパネルによる簡単操作。
● 到達圧力 5x10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！）
● 膜均一性 ±3%
● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他
● 3源カソード + MFCx3系統、RF/DC電源追加し、多層膜・同時成膜など多目的に活用頂けます。
・絶縁膜
・導電性膜
・化合物、他

【主な特徴】
◉ 対応基板：2"（〜3源）、又は"（1源）
◉ 2"カソード x 最大3源
◉ タッチパネル簡単操作 PLC自動プログラム制御
◉ MFC高精度APC自動プロセス圧力コントロール
◉ MFC 最大3系統
◉ USB端子付 Windows PC接続、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでライブデータロギング。
◉ 真空系：TMP + RP（*ドライポンプオプション）
◉ 基板回転・上下昇降・加熱（Max500℃）
◉ 水晶振動膜厚モニタ/コントローラ