掲載開始日：2024-10-13 00:00:00.0
■□■ R&D用小型縦型炉 TVF-110 ■□■
- テルモセラ・ジャパン_小型縦型拡散炉
ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉
大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉
【用途】
◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理
◉ 基礎実験：縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験
【主な仕様】
・炉内温度Max1200℃, 試料最大温度Max950℃
・小片試料：数ミリサイズ〜3inchウエハーサイズまで対応
・基板枚数：1〜3枚程度
・石英サセプタ手動昇降式：停止位置目盛、クランパ付き
・炉芯管：Φ100 x Φ95 x 470L mm
・昇降：手動回転ハンドル
・温度調節：PIDプログラム温度調節計
・熱電対：2対式K熱電対x1（制御用、過昇温用）、Kタイプ素線（炉芯測温用）
関連資料
- Products Guide.pdf[762KB]
関連リンク
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取扱会社
【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置
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