薄膜太陽電池の超精密製造用に532nmのHyper Rapid ピコ秒レーザを発表

材料加工用産業用レーザを牽引する当社は、薄膜太陽電池の超精密製造を可能にする、
発振波長532nm、平均出力100Wで動作する新しいHyperRapid NXT産業用
ピコ秒レーザの導入を発表しました。

エネルギー効率の飛躍的な向上が期待される第2世代太陽電池は、
主にペロブスカイトなどの薄膜材料や、IBC(interdigitated back contact)パネルなどの
新技術に基づいています。

これらの新しい太陽電池技術は、セル内の電気接点とセル間の絶縁の両方を、
非常に高いスループットで、一貫性、信頼性、コスト効率の高い方法で実現する、
超高精度のスクライビングおよび溝入れツールの需要を高めています。

この新しいレーザにより、第2世代のソーラーパネルのメーカーは、
高品質と低コストを維持しながら生産量の増加に対応できるようになります。