2016/5/18~20『OPIE'16』出展・技術セミナーご案内

最終更新日:2016-05-17 10:50:54.0

ケイエルブイ株式会社 ロゴ

ケイエルブイ株式会社

  • 開催地:神奈川県

開催期間:2016年5月18日(水)~20日(金)
開催場所:パシフィコ横浜
弊社ブース:I-20

出展社セミナー:
小型・高解像度化が進むハイパースペクトルカメラ
5/18(水)13:50~14:40
5/19(木)14:55~15:45

波長可変光源 ライトレプリケーターのアプリケーション
5/19(木)16:00~16:50
5/20(金)14:55~15:45

(聴講無料)
https://www.opie.jp/seminar/projects/semi/1/8

<出展製品>
ハイパースペクトルカメラ
波長可変光源 ライトレプリケーター
超小型分光センサ
特殊光学素子
赤外線LED
UV‐LED照射装置
スーパーコンティニューム光源(SC光源)
リニアバリアブルフィルタ、高反射銀ミラー

実機でのデモンストレーション、出展社セミナーでの製品紹介も予定しております。ご来場をお待ちしております。

開催日時 2016年05月18日(水) ~ 2016年05月20日(金)
10:00 ~ 17:00
会場 パシフィコ横浜
https://www.opie.jp/visitor.php
参加費 無料

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取扱会社

ケイエルブイ株式会社

ハイパースペクトルカメラ、マルチスペクトルカメラ、分光器、 (UV~IR)各種光源、波長可変光源、紫外線照射器、 液体ライトガイド、フィルタ、センサ等の光学製品の販売

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