掲載開始日:2018-11-13 00:00:00.0
13.5nm 極端紫外 (EUV) 用平面ミラーの短納期供給を開始しました。
2018 年11 月 ( 東京都文京区) – 米国Edmund Optics(R) (EO) の日本法人、
エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社は、極端紫外 (EUV) 用平面ミラーの発売を開始しました。
このミラーは、精密研磨された多層膜ミラーで、設計波長と入射角 (AOI) で反射率が最大となるようデザインされています。
EUV 放射のビームステアリングや高調波分離用に適してます。
【特長】
■13.5nm で最大反射率
■CDI および材料科学の研究に好適
※詳しくは下記詳細ページをご覧いただくか、お気軽にお問合せください。
関連資料
- PR_極端紫外 (EUV) 用平面ミラー.pdf[181KB]
取扱会社
光学部品・光学製品の製造販売、及び同製品の仕入輸出業務 取扱製品: [オプティクス] 光学レンズ、光学用ミラー、ウインドウ & 拡散板、光学フィルター、偏光素子、ビームスプリッター、プリズム、回折格子 [イメージングレンズ] 固定焦点 (単焦点) レンズ、テレセントリックレンズ、M12 マウントレンズ (Sマウントレンズ)、固定倍率レンズ、耐久化レンズ、液体レンズ、ズームレンズ [レーザーオプティクス] レーザー用ミラー、レーザー用レンズ、レーザー用ウインドウ、レーザー用フィルター、超短パルス用オプティクス、レーザービームエキスパンダー [顕微鏡関連製品] 対物レンズ、顕微鏡用カメラ/照明/フィルター、実体顕微鏡、接眼レンズ [産業用カメラ] GigE (PoE) カメラ、USBカメラ [照明製品] マシンビジョン用照明、顕微鏡用照明、分光用照明、レーザー光源 [オプトメカニクス] ベンチトップ用/ケージシステム用光学マウント、電動/自動/手動ステージ、ブレッドボード
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