【分析事例】ZnO膜の組成・不純物の三次元分布評価一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

イメージングSIMS分析により面内分布を可視化

デバイス作成の要素の一つである膜組成の均一性と不純物の分布状態をイメージングSIMS分析により評価しました。
測定後のデータ処理により、平面イメージ（図1）・断面イメージ（図2）・任意箇所の深さ方向分布プロファイル（図3, 4）・ラインプロファイルを得ることができます。構成材料・不純物の分布から、プロセス・膜質改善に繋がる情報を得ることができます。

基本情報【分析事例】ZnO膜の組成・不純物の三次元分布評価

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取扱企業【分析事例】ZnO膜の組成・不純物の三次元分布評価

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