【お知らせ】2025年1月14日より当サイトをリニューアルいたします!詳細はこちらからご確認ください。
【ご注意】現在ご利用いただけないメールアドレスで登録されている場合、リニューアル後にログインできなくなります。
こちらからメールアドレスの変更をお早めにお願いいたします。

×

テルモセラ・ジャパン株式会社 【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置

◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉ 高精度温度・圧力制御 ◉ 洗練されたソフトウエア

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温:1100℃/約3分間
◉ 高精度温度制御:±1℃
◉ 高精度APC自動圧力制御システム:ガス3系統(Ar, H2, CH4)
◉ グラフェン作成用標準レシピ付属
◉ コンパクトサイズ:405(W) x 415(D) x 280(H)mm

基本情報【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置

◆特徴◆
・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理
・最大30レシピ,30stepのプログラム作成可能
・PCソフトウエア付属 USBケーブル接続,PC側でのオフラインレシピ作成→装置へアップ/ダウンロード, CSVデータ出力
・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他

◆Model. nanoCVD-8G(グラフェン用)◆
・グラフェン作成用,真空プロセス制御
・ロータリーポンプ標準付属(オプション:ドライスクロールポンプ)
・ガス供給3系統(Ar, H2, CH4)
・試料加熱ステージMax1100℃
・Kタイプ熱電対

※ Ar, H2, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属しません。

価格情報 -
詳細当社までお問い合わせ下さい。
納期 お問い合わせください
※詳細当社までお問い合わせ下さい。
型番・ブランド名 nanoCVD-8G
用途/実績例 ◆主な応用アプリケーション◆
・大学教育機関
・各研究機関での基礎・応用研究
・材料開発
・その他先端デバイス開発などに応用

ラインナップ

型番 概要
nanoCVD-8G Graphene用 真空プロセス制御 ロータリーポンプ標準付属
nanoCVD-8N SWNT用 常圧プロセス制御

詳細情報【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置

nanoCVD-8G sample stage
nanoCVD-8G試料加熱ステージ

nanoCVD HMI
nanoCVD 5inchタッチパネルスクリーン

ラマン解析データ
nanoVD-8G グラフェン ラマン解析データ

nanoCVD-8G グラフェン合成装置

nanoCVD-8G グラフェン合成装置

カタログ【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置

取扱企業【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置

iPROS_Thermocera-image-2.jpg

テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置

【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置へのお問い合わせ

お問い合わせ内容をご記入ください。

至急度必須
ご要望必須
目的必須
添付資料
お問い合わせ内容

あと400文字入力できます。

【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。

はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら

イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

テルモセラ・ジャパン株式会社

CHECK

【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置 が登録されているカテゴリ