テルモセラ・ジャパン株式会社 【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置
- 最終更新日：2024-10-12 16:20:21.0
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◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉ 高精度温度・圧力制御 ◉ 洗練されたソフトウエア
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温：1100℃/約3分間
◉ 高精度温度制御：±1℃
◉ 高精度APC自動圧力制御システム：ガス3系統（Ar, H2, CH4）
◉ グラフェン作成用標準レシピ付属
◉ コンパクトサイズ：405(W) x 415(D) x 280(H)mm
基本情報【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置
◆特徴◆
・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理
・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能
・PCソフトウエア付属 USBケーブル接続，PC側でのオフラインレシピ作成→装置へアップ/ダウンロード, CSVデータ出力
・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他
◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆
・グラフェン作成用，真空プロセス制御
・ロータリーポンプ標準付属（オプション：ドライスクロールポンプ）
・ガス供給3系統（Ar, H2, CH4）
・試料加熱ステージMax1100℃
・Kタイプ熱電対
※ Ar, H2, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属しません。
| 価格情報 |
- 詳細当社までお問い合わせ下さい。 |
|---|---|
| 納期 |
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※詳細当社までお問い合わせ下さい。 |
| 型番・ブランド名 | nanoCVD-8G |
| 用途／実績例 | ◆主な応用アプリケーション◆ ・大学教育機関 ・各研究機関での基礎・応用研究 ・材料開発 ・その他先端デバイス開発などに応用 |
ラインナップ
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| nanoCVD-8G | Graphene用 真空プロセス制御 ロータリーポンプ標準付属 |
| nanoCVD-8N | SWNT用 常圧プロセス制御 |
詳細情報【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置
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nanoCVD-8G sample stage
nanoCVD-8G試料加熱ステージ
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nanoCVD HMI
nanoCVD 5inchタッチパネルスクリーン
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ラマン解析データ
nanoVD-8G グラフェン ラマン解析データ
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nanoCVD-8G グラフェン合成装置
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nanoCVD-8G グラフェン合成装置
カタログ【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置
取扱企業【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置
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【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置
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