薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2024」薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2024」

研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。

【nano Benchtopシリーズ】
ハイパフォーマンス！nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置
コンパクトサイズに、高機能・ハイスペックな薄膜装置を収納

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】
多彩な装置構成、必要なコンポーネントを要求仕様に合わせて組み合わせ構成する「フレキシブル実験装置」 （詳細を見る）

【フレキシブルシステム】
MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。
MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。

【スモールフットプリント・省スペース】
・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm
・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm
・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm

【優れた操作性・直観的操作画面】
Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。 （詳細を見る）

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。
グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。
フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。
◉ 最大基板サイズ：Φ6inch
◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源）
◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc
◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源）
◉ ドライエッチング
◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議）
◉ その他オプション：
2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。

※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。 （詳細を見る）

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置
下記蒸着源から組合せが可能
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大4
・電子ビーム蒸着
・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4
・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能

【スモールフットプリント・省スペース】
・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm

【優れた操作性・直観的操作画面】
Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。 （詳細を見る）

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, アニールなどの幅広い目的に対応。
・最大基板サイズ：Φ10inch
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源
・有機蒸着源 x 最大4源
・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源
・電子ビーム蒸着
・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）
・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング

*プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能 （詳細を見る）

OLED（有機EL）, OPV（有機薄膜太陽電池）, OTFT（有機薄膜太陽電池）, 又, グラフェン, TMD（遷移金属ダイカルコゲナイド）などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。
MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省スペース環境で実現します。

【特徴】
◉ PVD成膜、スピンコート塗布・ホットプレートベーキングなど一連の作業を外気に晒すことなく、GB内でシームレスに行うことができます。
◉ 省スペース：背面にチャンバーがせり出しませんので、スペースを取りません。
【MiniLab対象】
◉ MiniLab-026（26ℓ容積）：金属/絶縁物/有機材料蒸着、スパッタリング、プラズマエッチング、アニール
◉ MiniLab-090（90ℓ容積）：金属/絶縁物/有機材料蒸着、EB蒸着、スパッタリング、プラズマエッチング、アニール

※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。 （詳細を見る）

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替）
高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応
高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション
-1) Max600℃（ランプ加熱）
-2) Max1000℃（C/Cコンポジット）
-3) Max1000℃（SICコーティング）
ロードロック内逆スパッタステージ
-1) 300W、又は
-2) Soft-Etching(＜30W）
システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI）インターフェイス
全ての操作を一箇所のHMI画面で一元管理
 （詳細を見る）

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温：1100℃/約3分間
◉ 高精度温度制御：±1℃
◉ 高精度APC自動圧力制御システム：ガス3系統（Ar, H2, CH4）
◉ グラフェン作成用標準レシピ付属
◉ コンパクトサイズ：405(W) x 415(D) x 280(H)mm （詳細を見る）

【フレキシブルシステム】
MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。
MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。

【スモールフットプリント・省スペース】
・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm
・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm
・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm

【優れた操作性・直観的操作画面】
Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。 （詳細を見る）

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置
下記蒸着源から組合せが可能
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大4
・電子ビーム蒸着
・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2）
・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能

【スモールフットプリント・省スペース】
・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm

【優れた操作性・直観的操作画面】
Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。 （詳細を見る）

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。
・最大基板サイズ：Φ10inch
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源
・有機蒸着源 x 最大4源
・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源
・電子ビーム蒸着
・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）
・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング
・CVD（熱CVD, PECVD）

*プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能 （詳細を見る）

【フレキシブルシステム】
MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。
MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。

【スモールフットプリント・省スペース】
・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm
・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm
・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm

【優れた操作性・直観的操作画面】
Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。 （詳細を見る）

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。
グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。
フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。
◉ 最大基板サイズ：Φ6inch
◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源）
◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc
◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源）
◉ ドライエッチング
◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議）
◉ その他オプション：
2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。

※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。 （詳細を見る）

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。
グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。
フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。
◉ 最大基板サイズ：Φ6inch
◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源）
◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc
◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源）
◉ ドライエッチング
◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議）
◉ その他オプション：
2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。

※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。 （詳細を見る）

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替）
高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応
高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション
-1) Max600℃（ランプ加熱）
-2) Max1000℃（C/Cコンポジット）
-3) Max1000℃（SICコーティング）
ロードロック内逆スパッタステージ
-1) 300W、又は
-2) Soft-Etching(＜30W）
システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI）インターフェイス
全ての操作を一箇所のHMI画面で一元管理 （詳細を見る）

ExTempは、石油化学プラント・医薬品工場・薬品工場などの危険物取扱設備や工場で使用することができる本質安全防爆構造の放射温度センサーです。
（TIIS型式検定合格番号：第21097号） （詳細を見る）

● スマホ・タブレットを使い設定を行う事ができます。
● 専用アプリをGoogle Playから無料ダウンロード（Android4.1〜5.1）
● AndroidのNFC通信を使い、センサ部にタッチするだけで読込み・書出しをします。
● 超小型センサ（Φ31mm x t29mm）狭い場所でも温度測定が可能。
● 高速応答125msec、高精度±1.5%
● 電圧出力（0-5V or 0-10V）、又はK熱電対出力 （詳細を見る）

【概要】
視認性の良い高輝度タッチパネルディスプレーで、温度レンジ・放射率・サンプリングレート等のパラメータを直感的に操作・設定。
microSDカードで長期間のデータ保存・管理が可能です。
（*オプションでディスプレー無しの変換器もあります）
φ18mm x 45mmの小型センサヘッドで、狭い場所での温度測定も可能、耐ノイズ性に優れたセンサ・ケーブルを採用しておりますので、ロボットアームなどの動く機器への組込みにも適します。
PM2.2モデルは、短波長2.2um波長を採用、高温（Max2000℃）、光沢性のある金属材料表面の測定などにも対応します。

【特徴】
◎ ワイドレンジ：-20〜1000℃（PM）, 100〜2000℃（PM2.2）
◎ 優れた基本性能：精度±1%, 再現性±0.5%、240msec高速応答
◎ 測定波長領域：8〜14μm（PM）, 2.0〜2.2μm（PM2.2）
◎ 小型Φ18mm x 45mm （詳細を見る）

【概要】
標準付属の「Calexsoft」をインストール、あとはUSBケーブルでWindowsPCに接続するだけ。Plug&Play感覚で簡単にPC上でセンサの測定パラメータ設定、測定、測定結果の解析・CSV出力ができます。
USB出力 PCに接続しUSBバスパワーのみで動作。電源を必要としません。
さまざまな工業分野・研究機関実験ラボでの活用など、応用範囲が広がります。

【特徴】
◎ USBデータロギング
◎ ワイドレンジ：-20℃〜+1000℃
◎ 優れた基本性能：精度±1%, 再現性±0.5%、125msec高速応答
◎ 放射率調整範囲：0.2〜1.0
◎ 測定波長領域8〜14μm
◎ 小型Φ18mm x 45mm （詳細を見る）

【概要】
英国カレックス・エレクトロニクス社製「PyroCouple（パイロ・カップル）」は、従来に無い小型軽量、低価格、高性能な赤外線温度センサーです。
「動く」「回転する」「触れる事ができない」測定対象物表面を非接触で測定し、高速・高再現性で温度制御ができます。

【特徴】
◎ アンプ・センサ一体型
◎ 4-20mA出力（標準）、0-50mV、熱電対K, J, T出力（オプション）
◎ 精度：±1% or ±1℃（いずれか大きい値）
◎ 再現性：±0.5% or ±0.5℃（いずれか大きい値）
◎ 応答速度：240msec
◎ 保護等級：IP65 （詳細を見る）

【概要】
標準付属の「CalexConfig」とUSBケーブル（1.8m付属）でWindowsPCに接続、PC上でセンサの測定パラメータ設定、測定結果の解析・CSV出力ができます。
1) 4-20mA出力
2) USB出力（USBバスパワーで動作）
3) 4-20mA/USB出力の同時使用
の3通りの使い方が可能です。

【特徴】
◎ USBデータロギング/4-20mAアナログ出力の同時使用可能
◎ 優れた基本性能：精度±1%, 再現性±0.5%、200msec高速応答
◉ PUA2：短波長2.0〜2.4μmもカバー、金属表面も測定可能
◉ PUA5：ガラス表面測定用に好適 波長5μm
◉ PUA8：一般用途 紙・木・プラスチック・繊維など幅広い用途に 波長8-14um （詳細を見る）