アールエムテック株式会社 GCIB（ガスクラスターイオンビーム）装置
- 最終更新日：2015-12-08 15:20:17.0
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本装置は、数十～数万個の気体原子や分子の集団をイオン化して適度なエネルギーに加速したビーム（GCIB）を非加工物に照射する事で表面の超平滑化や改質を低ダメージで行う事が出来ます。原子分子レベルの加工のため、すでに形状加工された微細構造物の平滑化やエッチング加工、表面加工が可能です。
【特長】
■ナノオーダーの微細加工に適しています
■Ra 数ナノメートルの平坦化加工
■反応性ガス処理対応
■基板表面温度１００℃以下での加工可能
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
基本情報GCIB（ガスクラスターイオンビーム）装置
【GCIB（ガスクラスターイオンビーム）装置の特色】
○試料保持ステージ
・被対象物にあわせてステージ作製し、X-Y-Z、自転、入射角を変更できる
・X-Y スキャンを行うことで、ビーム照射高均一性が得られる
○高真空動作圧
・アガスクラスターイオン生成室とビーム照射室が分かれているため、照射雰囲気は10－3Pa台の高真空に保たれ、コンタミ発生やプラズマダメージを対象物表面に与えない
○反応性ガス
・対象物加工条件によって反応性ガスでのクラスタービーム照射可能
・N2, O2, CO2, SF6, CF4, CHF3, B2H6
○自由度
・ガスクラスターイオンビーム装置設計時からお客様のご要望を可能な限り反映させ、お客様だけの特注の研究・量産設備に仕上げる
・GCIBアシスト蒸着装置製作も対応可能
●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ○ GCIB（ガスクラスターイオンビーム）装置として →表面改質・高品位薄膜形成に →超平坦化加工・無損傷加工・高速加工に ●詳しくはお問い合わせください。 |
カタログGCIB（ガスクラスターイオンビーム）装置
取扱企業GCIB（ガスクラスターイオンビーム）装置
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真空業界における専門技術商社として、真空成膜装置・薄膜材料・イオンソース及び同応用製品、GIB応用製品などの販売、保守サービスなど、お客様のニーズに合わせたトータルなサービスの提案・提供をしています。特にガスクラスターイオンビームの分野では他社の追随を許さぬ製品です。 【デモテスト照射】GCIB、イオンビームエッチングのデモテスト行っています。 真空成膜装置の排気能力向上に利用されるサップコールド社の冷凍機は、弊社相模原サービスセンターで全数出荷前テストを行い、日本及び中国、台湾、東南アジアでご使用いただいております。 また、真空装置に使用される真空ポンプのオーバーホールを相模原サービスセンターで行っています。
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