アールエムテック株式会社 GCIB(ガスクラスターイオンビーム)装置

コンパクト構造で、シンプルで低価格な設計になっています。超平坦化加工と無損傷加工を実現!表面改質、高品位薄膜形成などに最適です。

本装置は、数十~数万個の気体原子や分子の集団をイオン化して適度なエネルギーに加速したビーム(GCIB)を非加工物に照射する事で表面の超平滑化や改質を低ダメージで行う事が出来ます。原子分子レベルの加工のため、すでに形状加工された微細構造物の平滑化やエッチング加工、表面加工が可能です。

【特長】
■ナノオーダーの微細加工に適しています
■Ra 数ナノメートルの平坦化加工
■反応性ガス処理対応
■基板表面温度100℃以下での加工可能

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

基本情報GCIB(ガスクラスターイオンビーム)装置

【GCIB(ガスクラスターイオンビーム)装置の特色】
○試料保持ステージ
・被対象物にあわせてステージ作製し、X-Y-Z、自転、入射角を変更できる
・X-Y スキャンを行うことで、ビーム照射高均一性が得られる
○高真空動作圧
・アガスクラスターイオン生成室とビーム照射室が分かれているため、照射雰囲気は10-3Pa台の高真空に保たれ、コンタミ発生やプラズマダメージを対象物表面に与えない
○反応性ガス
・対象物加工条件によって反応性ガスでのクラスタービーム照射可能
・N2, O2, CO2, SF6, CF4, CHF3, B2H6
○自由度
・ガスクラスターイオンビーム装置設計時からお客様のご要望を可能な限り反映させ、お客様だけの特注の研究・量産設備に仕上げる
・GCIBアシスト蒸着装置製作も対応可能

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 【用途】
○ GCIB(ガスクラスターイオンビーム)装置として
→表面改質・高品位薄膜形成に
→超平坦化加工・無損傷加工・高速加工に

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カタログGCIB(ガスクラスターイオンビーム)装置

取扱企業GCIB(ガスクラスターイオンビーム)装置

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アールエムテック株式会社

真空業界における専門技術商社として、真空成膜装置・薄膜材料・イオンソース及び同応用製品、GIB応用製品などの販売、保守サービスなど、お客様のニーズに合わせたトータルなサービスの提案・提供をしています。特にガスクラスターイオンビームの分野では他社の追随を許さぬ製品です。 【デモテスト照射】GCIB、イオンビームエッチングのデモテスト行っています。 真空成膜装置の排気能力向上に利用されるサップコールド社の冷凍機は、弊社相模原サービスセンターで全数出荷前テストを行い、日本及び中国、台湾、東南アジアでご使用いただいております。 また、真空装置に使用される真空ポンプのオーバーホールを相模原サービスセンターで行っています。

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