株式会社クリスタル光学 クリスタル光学 鏡面研磨加工技術
- 最終更新日:2017-11-07 09:39:13.0
- 印刷用ページ
○鏡面の粗さはナノレベル。
*光学式表面粗さ測定による実績(一例)
・銅 Cu(99.99%) 0.4nm
・ステンレス SUS430 0.3nm
・樹脂材 PMMP 3nm
・単結晶材 シリコン(100面) 0.4nm
・光学単結晶材 NaCl(100面) 2.8nm
○素材を選ばない鏡面研磨
*取り扱い材質(実績一例)
●金属
ステンレス
アルミニウム
銅
チタン
モリブデン
タングステン
ニッケル
インコネル
ハステロイ
パーマロイ
インバー
ホワイトメタル
超硬
超硬+ステンレス 同時研磨
●非金属
セラミックス:SiC、アルミナ、ジルコニア、YAG
カーボン
石
ゼロデュア(ガラスセラミック複合素材)
ガラス:石英、BK7、青板、白板 他
樹脂:アクリル、PEEK、PVC、MCナイロン、
テフロン、ポリイミド
CFRP(カーボン繊維+樹脂)
●単結晶(別ページにて製品情報掲載)
他。
基本情報クリスタル光学 鏡面研磨加工技術
【主な鏡面加工実績】
・3800mm 大型ダイ
・マスフローコントローラー
・吸着プレート、テーブル
・ノズル
・導光板
・ステージ
・テーブル
・キャピラリ
・検査用ガラステーブル
・鏡面駒
・プリズム
他。
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 半導体、光学、液晶分野 |
取扱企業クリスタル光学 鏡面研磨加工技術
-
5つのフィールドで先端技術をささえます。 ●切削加工(アルミ・銅・ステンレス・樹脂、他) ●研削加工(アルミ・銅・ステンレス・ガラス、樹脂、他) ●研磨加工(アルミ、ステンレス・金属・セラミック・新素材・光学結晶etc) ●超精密加工(形状:自由曲面・平面・球面・軸外し 材質:アルミ・銅・Ni-P) ●測定(三次元測定・形状測定・面粗さ測定・他) ※表面処理(不動態化処理・電解研磨 材質:半導体素材)も行っております。 大型高精度加工を得意とし、8000mmの5面加工機をはじめ、4000mmの超高精度平面研削盤、3200mmφのラップ盤で対応いたします。 また、一貫生産の最終工程においても世界トップクラスの測定精度を誇るカールツァイス製三次元座標測定器(6000mmサイズ)にて、高精度を保証いたします。 ●主な加工 ダイ、ノズル、自由曲面ミラー、非球面ミラー、マスフローコントローラー、光学単結晶研磨加工、プレート、テーブル、ベッド、ステージ、他 半導体分野、液晶・フィルム・電池分野、光学分野、など様々な分野を対象とした加工を行っております。
クリスタル光学 鏡面研磨加工技術へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。