マスクレス露光装置「MXシリーズ」大日本科研

半導体製造等の露光工程における、開発/納期の短縮とコスト削減に貢献します。

半導体製造工程・マイクロセンサー（加速度センサー、圧力センサー、温度センサー、ガスセンサー）製造工程・プリント基板製造工程における露光技術では、フォトマスクを使用し、それを基盤に転写する方式が主流です。
一方、マスクレス露光装置「MXシリーズ」は、DMD（デジタル・マイクロミラー・デバイス）を用いた独自のポイントアレイ方式で、CADデータから直接露光することができます。
フォトマスクを使用しない露光方式では、世界最高レベル（1ミクロン以下）の露光精度を実現。
試作が容易になり、時間・コストの削減に貢献します。

【特徴】
○高価なマスクが不要となる
○マスクデータの外部流出防止
○描画パターンの設計から描画までの時間短縮
○描画パターンの設計変更が容易
○各基板の歪みに合わせた露光パターンの補正等が可能

・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

関連リンク - http://www.kakenjse.co.jp/products/maskless/

基本情報マスクレス露光装置「MXシリーズ」

【主な仕様】
○型式：MX-1201／MX-1201E／MX-1205
○最小線幅：5μm／3μm／1μm
○データ分解能：0.5μm／0.25μm／0.05μm
○最大基板サイズ（mm）：　200x200／200x200／100x100　
○有効露光エリア（mm）：　200x200／200x200／100x100
○レーザ主波長（nm）：　405±5／375±5／405+375±5
○露光スキャン速度（ｍｍ/s）：　43.9／22.5／4.5
○光学エンジン搭載数(灯)　：　1／1／1

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