エムエス機器株式会社 温度制御チラー『ThermoRack1201』
- 最終更新日:2022-03-04 18:08:29.0
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半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音・振動も防止!
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で
冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。
半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、
ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。
温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、
1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。
【特長】
■消費電力を最大93%削減
■冷却水使用量を最大60%削減
■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計
■騒音・振動を低減
■19インチラックに収まるサイズで省スペース
基本情報温度制御チラー『ThermoRack1201』
【基本仕様】
温度範囲:-10℃~80℃
冷却能力:1340W@20℃
加熱能力:2000W@25℃
タンク:5.7L
接液部材質:アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー
外寸法:L483×W610×H221(mm)
※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 世界中のFABで、フロン対策、温暖化(省エネ)対策、老朽化対策、プロセス改善の用途で広くご採用いただいております。 各社プラズマエッチング装置に対応した通信インターフェイスを装備しております。各種接続事例をご用意しておりますのでお問い合せ下さい。 |
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