ご要望に対応した装置を設計製作！CMP処理後のスクラブ洗浄装置
ヴァリアスでは半導体向け「CMP処理後スクラブ洗浄装置」を
ご要望に応じて設計製作いたします。
また、ご依頼に柔軟性をもって装置製作以外にも対応します。
お気軽にご相談ください。
【特徴】
○パルスJET洗浄
○リンス洗浄
○高速スピン乾燥
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
基本情報半導体向け装置「CMP処理後スクラブ洗浄装置」
【取扱製品】
○自動洗浄装置、レジスト剥離装置
○自動洗浄装置
○クローズド純水洗浄装置
○CMP処理後スクラブ洗浄装置
○手動洗浄装置
○JET-RINCER-DRYER
○IPA-VAPOR-DRYER
○ワンサイクル式洗浄機・水切り乾燥機
○ワープ洗浄装置
○ブラシ洗浄機
○エッチングドラフト
○メッキ装置
○スピンドライヤー、スピン洗浄機
○卓上型エアーブロー
○薬液供給装置
○純水装置（ろ過装置）
○高速プレス下死点制御コントローラー
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