リソテックジャパン株式会社 自動レジスト塗布現像ベーク装置『LITHOTRACシリーズ』
- 最終更新日：2024-11-11 15:43:44.0
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知識と経験を活かし、お客様のニーズに最適な仕様でご提供致します！
当シリーズは、研究開発用途から生産用途まで、半導体製造プロセスに
関わるあらゆる分野に適応可能なレジスト塗布・現像・ベーク装置です。
自由度の高い設計になっていて、研究開発及び量産仕様に最適です。
また、塗布ユニット/現像ユニットを搭載し、2”/8”ウェーハの
簡易切換えが可能です。
【特長】
■自由度の高い設計
■塗布ユニット/現像ユニットを搭載
■量産仕様に対応可能
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報自動レジスト塗布現像ベーク装置『LITHOTRACシリーズ』
【ラインアップ】
■LITHOTRAC Dual-1000
■LITHOTRAC CB-50
■LITHOTRAC DB-50
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
取扱企業自動レジスト塗布現像ベーク装置『LITHOTRACシリーズ』
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微細加工プロセス用評価機器/製造装置の開発、製造、販売、輸出入、保守サービス
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