粉体機器『回転式流動層乾燥装置』アーステクニカ

大量処理に好適！湿式押出造粒した顆粒を連続的に乾燥・取り出しができる装置

『回転式流動層乾燥装置』は、湿式押出造粒した顆粒を連続的に
クローズド系で乾燥・取り出しができる乾燥装置です。

湿潤顆粒条件は、粒度・粒径0.4〜0.6mm・φ0.5×3〜5mm・円柱形顆粒、
かさ密度0.4～0.6g/cm3、湿潤顆粒水分10～20％となっています。（参考数値）

【特長】
■湿式押出造粒した顆粒を連続的にクローズド系で乾燥・取り出しができる
■大量処理に適した装置
■乾燥装置内における滞留時間を一定にできる
（乾燥条件のバリテーションが可能）

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - http://www.earthtechnica.co.jp/powder/p52/

基本情報粉体機器『回転式流動層乾燥装置』

【仕様】
■型式：槽移動式流動乾燥方式
■処理能力：3〜4kg/min
　※湿潤顆粒の物性（初期水分）、乾燥終点（乾燥時水分）により乾燥機への供給量を設定
■乾燥時間：常用8分（調整可能）
■乾燥室数：12室/基
■外形寸法：φ1054mm×H1560mm
■材質・仕上：SU304、接粉部バフ#320、外面部バフ#240
■設置環境：屋内装置、非防爆仕様
■本体重量：約700kg

【必要ユーティリティ】
■送風量：最大360cm3/min
■送風温度：50〜80±2℃
■排風量：最大72cm3/min
■圧縮空気：0.5MPa
■流量：3.5Nm3/h
　※上記は標準数値であり、要求条件により設置可能

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