株式会社アーステクニカ
最終更新日：2018-10-16 10:28:25.0
粉体機器『回転式流動層乾燥装置』
基本情報粉体機器『回転式流動層乾燥装置』
大量処理に好適！湿式押出造粒した顆粒を連続的に乾燥・取り出しができる装置
【掲載内容 ※詳しくはカタログをご覧ください。】
『回転式流動層乾燥装置』は、湿式押出造粒した顆粒を連続的にクローズド系で乾燥・取り出しができる乾燥装置です。
湿潤顆粒条件は、粒度・粒径0.4〜0.6mm・φ0.5×3〜5mm・円柱形顆粒、かさ密度0.4〜0.6g/cm³、湿潤顆粒水分10〜20％となっています（参考数値）。
【特長】
■大量処理に適した装置
■乾燥装置内における滞留時間を一定にできる
・乾燥条件のバリテーションが可能
粉体機器『回転式流動層乾燥装置』
『回転式流動層乾燥装置』は、湿式押出造粒した顆粒を連続的に
クローズド系で乾燥・取り出しができる乾燥装置です。
湿潤顆粒条件は、粒度・粒径0.4〜0.6mm・φ0.5×3〜5mm・円柱形顆粒、
かさ密度0.4～0.6g/cm3、湿潤顆粒水分10～20％となっています。（参考数値）
【特長】
■湿式押出造粒した顆粒を連続的にクローズド系で乾燥・取り出しができる
■大量処理に適した装置
■乾燥装置内における滞留時間を一定にできる
（乾燥条件のバリテーションが可能）
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）
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