株式会社インターフェイス 受託加工『CVD-SiCコーティング』
- 最終更新日：2016-08-05 15:17:25.0
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高硬度、耐熱、半導体特性、化学蒸着法炭化ケイ素 CVD-SiC
『CVD-SiCコーティング』は、高硬度、耐熱性、耐磨耗性に優れた
半導体特性を持つ薄膜です。
当社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、
高純度のSiC膜を最大2mm以上析出してバルクのSiCを作成しております。
【特長】
■高硬度
■優れた耐熱性
■優れた耐磨耗性
■半導体特性を有する
■半導体装置部品等にも適応可能
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報受託加工『CVD-SiCコーティング』
【仕様】
■色調：灰色
■硬度：2,800〜3,000HV
■膜厚：500μm〜5mm
■酸化温度：500℃
■処理温度：1200〜1500℃
■結晶配向：標準
■有効径
・小型：200L×200W×80T
・大型：φ500L×600L
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■高温ガラスレンズ用金型 ■半導体関連部品 など ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ受託加工『CVD-SiCコーティング』
取扱企業受託加工『CVD-SiCコーティング』
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【取扱製品】 ■金属・セラミックス等への表面処理受託加工 ■CVD、PVD装置設計、製造、開発 ■真空装置の設計 ■ガス供給装置の設計
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