受託加工『CVD-SiCコーティング』

高硬度、耐熱、半導体特性、化学蒸着法炭化ケイ素 CVD-SiC

『CVD-SiCコーティング』は、高硬度、耐熱性、耐磨耗性に優れた
半導体特性を持つ薄膜です。

当社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、
高純度のSiC膜を最大2mm以上析出してバルクのSiCを作成しております。

【特長】
■高硬度
■優れた耐熱性
■優れた耐磨耗性
■半導体特性を有する
■半導体装置部品等にも適応可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。