一般財団法人材料科学技術振興財団 MST 【分析事例】めっき試料の脱ガス評価
- 最終更新日:2017-04-06 13:13:31.0
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Ni/Auめっきの昇温脱離ガス分析(TDS)
めっき膜にガスが含有されている場合、はがれや膨れ、膜中の気泡など不良の原因となる場合があります。めっき膜に含有されているガスについて調査するには、高真空中で試料を昇温させて脱離したガスを測定できるTDSが有効です。
SUS部材上にNi/Auめっきを施した試料について、TDS分析を行った結果を示します。めっき膜からH2, HCN, H2S, HClの脱離が確認できました。また、定量値の算出を行いました。
基本情報【分析事例】めっき試料の脱ガス評価
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用途/実績例 | LSI・メモリの分析です |
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