小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置
『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ
1基搭載した小型スパッタ装置です。
シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。
基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。
基板加熱を高温で行えるほか、電気とガスのみでの運転や、スパッタアップ
とスパッタダウンの組み替えなども可能です。
【特長】
■シンプル設計で省スペース
■ターゲットと基板間の距離を任意に設定可能
■高温での基板加熱が可能
■チラーを標準装備
※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
基本情報小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』
【仕様】
■到達真空度：1×10^-4 Pa以下
■リーク量：1×10^-8 Pa・m3/sec以下（Oリング透過分を除く）
■排気系：TMP+ダイヤフラムポンプ（またはロータリーポンプ）
■真空計
フルレンジ真空計（コールドカソード+ピラニーゲージ）
+キャパシタンスゲージ（オプション）
■基板ステージ：2インチ対応ステージ
■基板加熱温度：MAX500℃（オプションでMAX800℃にも対応可能）
■本体架台：キャスター・アジャスター付き（電源部を含む）
※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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|---|---|
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| 用途／実績例 | ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 |
カタログ小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』
取扱企業小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』
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