エステック株式会社 『真空プラズマ照射装置』

細胞と接する面を細胞にやさしく表面改質!親水・疎水基の密度コントロール

『真空プラズマ照射装置』は、細胞と接する面を細胞にやさしく
表面改質する装置です。樹脂表面を親水化にも撥水化にも、自由自在に改質でき
最適な条件で処理が可能です。

様々な材料に対し、目的に最適なプラズマ照射条件を見出します。
また、受託処理も承っております。

【特長】
■強力で均一な照射が可能で処理ムラがない
■エッチング効果が少なく、材料への物理的ダメージがほとんどない
■高密度の官能基が生成でき、接着剤を用いない直接接合が可能
■官能基の退行が極めて少ない
■ガス使用量が極めて少ない

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報『真空プラズマ照射装置』

【その他の特長】
■小さいサンプルでも素早くプラズマ照射可能
■プラズマ照射時に内部の様子や小さな変化も観察できる
■真空度、ガス流量、プラズマ電圧などの照射条件を自由に設定・調整可能
■最適プラズマ照射条件を見出し、当社独自のノウハウを構築

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カタログ『真空プラズマ照射装置』

取扱企業『真空プラズマ照射装置』

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エステック株式会社

【製造品目】 ■超硬丸鋸切断機 砥石切断機 ■試料調製装置 (鉄 非鉄 土壌 タンパク質 セメント アスベスト等の試料調製) ■搬送装置 ■マーキング装置 ■真空装置 ■その他省力機器

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