驚くほど緻密で平滑な反応膜を実現した『アーク放電型マグネトロンスパッタリング装置』
当社で取り扱う、『アーク放電型マグネトロンスパッタ装置』をご紹介します。
マグネストロンスパッタ機構の前面に低電圧大電流のアーク放電機構を付加
したことで、基板に入射するイオン量が一般的な装置に比べて10倍多くなり、
緻密で硬い、平滑な反応膜を工業レベルで形成できるようになりました。
また、コーティング面の仕上げ研磨が不要になったことで、耐久性も向上し、
省エネルギーに貢献しています。
【特長】
■マグネストロンスパッタ機構の前面に低電圧大電流のアーク放電機構を付加
■基板に入射するイオン量が一般的な装置に比べて10倍多い
■緻密で硬い、平滑な反応膜を工業レベルで形成
■コーティング面の仕上げ研磨が不要
■耐久性も向上し、省エネルギーに貢献
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基本情報【関西ものづくり新撰2023選定！】緻密＆平滑膜形成装置
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取扱企業【関西ものづくり新撰2023選定！】緻密＆平滑膜形成装置
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●装置事業部 （成膜装置） ・スパッタリング装置 ・真空蒸着装置 ・硬質膜形成装置 ・プラズマCVD装置 （プラズマ装置） ・エッチング装置 ・アッシング装置 ・クリーニング装置 （熱処理装置） ・真空リフロー装置 ・プラズマリフロー装置 ・真空熱処理装置 ・アニール装置 ●規格品事業部 ・ドライポンプ ・油回転真空ポンプ ・水封式真空ポンプ ・メカニカルブースタ ・真空排気装置 ・真空計、真空弁、真空部品 ・精密投影機 ・特殊光学機器
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