卓上ホットプレート 2モデル＜250℃仕様/350℃仕様＞ SCREEN SPEサービス

コンパクトでありながら、高性能。幅広いプロセスに対応。

ホットプレートの性能は、フォトリソグラフィープロセスの精度を決める重要なファクターです。

特に、膜厚・線幅・膜質の高い均一性が要求される先端プロセスや、
温度依存性の高い材料でのプロセス開発においては、
ホットプレートの性能が、プロセスパフォーマンスを見極める大きな要因となります。

タイマー制御のピンアップ機構により、正確な時間管理を実現。
ウェーハ間の均一な熱処理を可能にしました。

標準250℃モデルに加え、高温350℃モデルもご用意。
また、処理前後に均一な冷却が必要な場合は、卓上クールプレートも
ご利用いただけます。

【特長】
■高精度な面内温度均一性。
■タイマー制御により、ウェーハ間差を低減。
■3～8インチに対応。
■プロキシミティーボールにより、均一なギャップを確保。
■高温350℃モデルには、火傷防止カバーを装備。
■空冷・水冷の卓上クールプレートもご利用可能。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - https://www.screen-sv.co.jp/

基本情報卓上ホットプレート 2モデル＜250℃仕様/350℃仕様＞

【共通仕様】
■ 卓上ホットプレート
＜標準250℃モデル＞
対応温度範囲～250°C
ワークサイズ 3～8インチ
寸法幅300×奥行350×高さ300 mm
タイマー制御ピンアップによる上・下の2段
マイカヒーター・AC 100 V 600 W
丸型φ216 mm

＜高温350℃モデル＞
対応温度範囲～350°C
ワークサイズ 3～8インチ
寸法幅320×奥行361×高さ334 mm
タイマー制御ピンアップによる上・下の2段
マイカヒーター・AC 100 V 600 W
丸型φ216 mm

■ 卓上クールプレート
空冷・水冷に対応 ※この温度で対応
ワークサイズ 3～8インチ
寸法幅300×奥行350×高さ300 mm
タイマー制御ピンアップによる上・下の2段
丸型φ220 mm

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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用途／実績例	【用途】 ■ 半導体工場のプロセス開発 ■ 半導体材料メーカの材料開発 ■ 半導体工場の極小ロット生産 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

取扱企業卓上ホットプレート 2モデル＜250℃仕様/350℃仕様＞

株式会社 SCREEN SPEサービス

・半導体製造装置の立ち上げ・セットアップ・半導体製造装置の仕様変更・半導体製造装置の修理・半導体製造装置のリフレッシュ・プリメンテサービス・半導体製造装置のプロセス最適化・延命化支援・半導体製造装置の移設・解体・保守契約による各種技術サービス・周辺機器の開発・設計・製造・販売・周辺機器の修理・耐薬エプロンSEBAPRON（セバプロン）の販売・装置消耗部品の販売