株式会社 SCREEN SPEサービス 卓上ホットプレート 2モデル ＜250℃仕様/350℃仕様＞
- 最終更新日：2023-06-29 19:01:30.0
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ホットプレートの性能は、フォトリソグラフィープロセスの精度を決める重要なファクターです。
特に、膜厚・線幅・膜質の高い均一性が要求される先端プロセスや、
温度依存性の高い材料でのプロセス開発においては、
ホットプレートの性能が、プロセスパフォーマンスを見極める大きな要因となります。
タイマー制御のピンアップ機構により、正確な時間管理を実現。
ウェーハ間の均一な熱処理を可能にしました。
標準250℃モデルに加え、高温350℃モデルもご用意。
また、処理前後に均一な冷却が必要な場合は、卓上クールプレートも
ご利用いただけます。
【特長】
■高精度な面内温度均一性。
■タイマー制御により、ウェーハ間差を低減。
■3～8インチに対応。
■プロキシミティーボールにより、均一なギャップを確保。
■高温350℃モデルには、火傷防止カバーを装備。
■空冷・水冷の卓上クールプレートもご利用可能。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報卓上ホットプレート 2モデル ＜250℃仕様/350℃仕様＞
【共通仕様】
■ 卓上ホットプレート
＜標準250℃モデル＞
対応温度範囲 ～250°C
ワークサイズ 3～8インチ
寸法 幅300×奥行350×高さ300 mm
タイマー制御ピンアップによる上・下の2段
マイカヒーター・AC 100 V 600 W
丸型φ216 mm
＜高温350℃モデル＞
対応温度範囲 ～350°C
ワークサイズ 3～8インチ
寸法 幅320×奥行361×高さ334 mm
タイマー制御ピンアップによる上・下の2段
マイカヒーター・AC 100 V 600 W
丸型φ216 mm
■ 卓上クールプレート
空冷・水冷に対応 ※この温度で対応
ワークサイズ 3～8インチ
寸法 幅300×奥行350×高さ300 mm
タイマー制御ピンアップによる上・下の2段
丸型φ220 mm
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■ 半導体工場のプロセス開発 ■ 半導体材料メーカの材料開発 ■ 半導体工場の極小ロット生産 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ卓上ホットプレート 2モデル ＜250℃仕様/350℃仕様＞
取扱企業卓上ホットプレート 2モデル ＜250℃仕様/350℃仕様＞
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・半導体製造装置の立ち上げ・セットアップ ・半導体製造装置の仕様変更 ・半導体製造装置の修理 ・半導体製造装置のリフレッシュ・プリメンテサービス ・半導体製造装置のプロセス最適化・延命化支援 ・半導体製造装置の移設・解体 ・保守契約による各種技術サービス ・周辺機器の開発・設計・製造・販売 ・周辺機器の修理 ・耐薬エプロンSEBAPRON（セバプロン）の販売 ・装置消耗部品の販売
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