株式会社イオンテクノセンター イオン注入装置のラインナップ
- 最終更新日:2019-11-16 17:44:44.0
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低エネルギーから8MeVまでの多彩な注入装置を完備しております。
室温でのイオン注入はもちろん、世界で数社のみが対応可能な高温でのイオン注入では、トップレベルの技術力と設備を誇ります。
弊社では、チップ小片から300mm(12インチ)径ウエハまで多種多様なサンプル及び、お客様からのご要望に合わせて各種条件での注入処理が可能です。注入条件は10~8,000KeVまで、室温から高温加熱(600℃)まで、イオン種は約60種の対応が可能です。
基本情報イオン注入装置のラインナップ
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用途/実績例 | 半導体へのイオン注入では国内企業様、大学様に多くご利用頂いております。 |
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