株式会社イオンテクノセンター Implanter line-up

Various implanter line-up for your various requests

We can perform ion implantation processing under various conditions according to customer requirements, with a wide variety of samples from chips to 12-inch wafers. The implantation conditions range from 10 to 8,000 KeV, from room
temperature to high-temperature heating (600 ° C), and about 60 types of ionic
species can be handled.

基本情報Implanter line-up

Please feel free to contact us about implantation service.

価格情報 ******
Please feel free to contact us about fee of implantation service.
納期 お問い合わせください
※Please feel free to contact us about implantation service.
用途/実績例 We support many universities, institutes and corporates for implantation projects.

カタログImplanter line-up

取扱企業Implanter line-up

screenshot.16.jpg

株式会社イオンテクノセンター

1.受託物理分析 2.イオン注入加工

Implanter line-up へのお問い合わせ

お問い合わせ内容をご記入ください。

至急度必須
ご要望必須

  • あと文字入力できます。

目的必須
添付資料
お問い合わせ内容

あと文字入力できます。

【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。

はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら

イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

株式会社イオンテクノセンター