株式会社三若純薬研究所 レジスト剥離液『アンラスト R510』
- 最終更新日：2020-03-31 15:41:24.0
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剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています
『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。
特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、
また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。
対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。
【特長】
■PVA系フォトレジストの剥離剤
■特にリードフレーム用として開発
■剥離された皮膜は比較的小さい
■BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっている
■毒物劇物取締法：毒物
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報レジスト剥離液『アンラスト R510』
【その他の特長】
■処理条件
・濃度：原液
・温度：90～110℃
・時間：20～90秒
■対象物
・ポジレジスト
■使用されている業界
・電子工業
■容量・荷姿
・20kg缶／1tコンテナ／ローリー
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| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 用途／実績例 | 【用途】 ■PVA系フォトレジストの剥離 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログレジスト剥離液『アンラスト R510』
取扱企業レジスト剥離液『アンラスト R510』
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■化学薬品の製造販売
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