フィルジェン株式会社 導電性薄膜作製装置『オスミウム・プラズマコーター』
- 最終更新日:2020-05-07 17:11:10.0
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電子顕微鏡観察のお悩みを解決!チャージアップ防止、粒状性・熱ダメージ軽減に絶大な効果を発揮
『オスミウム・プラズマコーター』は、「直流グロー放電による
負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた電子顕微鏡試料用の
導電性薄膜作製装置です。
プラズマCVD法により、非晶質のオスミウム導電性薄膜(オスミウムコート)を
短時間に形成することができます。
非常に強固かつなめらかな表面の導電性薄膜が試料に対し熱ダメージを
与えることなく得られます。
【特長】
■フルオート操作
■オスミウム昇華室/ナフタレン昇華室の着脱が可能
■オスミウム/ナフタレンの残量確認が可能
■製膜時間が短い(数nm/数秒)
■アンプルは昇華室の中で割る安全構造
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報導電性薄膜作製装置『オスミウム・プラズマコーター』
【その他の特長】
■インターロック機構
■当社独自開発のオスミウムトラップフィルターを装着
■環境基準をクリアし、ハイレベルな安全性を確保
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