導電性薄膜作製装置『オスミウム・プラズマコーター』

『オスミウム・プラズマコーター』は、「直流グロー放電による
負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた電子顕微鏡試料用の
導電性薄膜作製装置です。

プラズマCVD法により、非晶質のオスミウム導電性薄膜(オスミウムコート)を
短時間に形成することができます。

非常に強固かつなめらかな表面の導電性薄膜が試料に対し熱ダメージを
与えることなく得られます。

【特長】
■フルオート操作
■オスミウム昇華室/ナフタレン昇華室の着脱が可能
■オスミウム/ナフタレンの残量確認が可能
■製膜時間が短い（数nm/数秒）
■アンプルは昇華室の中で割る安全構造

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）