アンカーテクノ株式会社 酸化膜工程向けCMPスラリー『ILD(TM)シリーズ』
- 最終更新日：2020-10-20 16:43:08.0
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酸化膜工程用ヒュームドシリカスラリー
『ILD(TM)シリーズ』は、ヒュームドシリカを用いた酸化膜CMPスラリーです。
一般的なコロイダルシリカスラリーでは実現困難な高研磨レートと
スクラッチフリー・不純物低減を実現した業界標準のスラリーで、
ガラスエポキシ研磨にもご使用いただけます。
【概要】
■低スクラッチ性能が求められる酸化膜工程研磨に好適
■KOH/アンモニアベース
■圧倒的な不純物金属低減
■高い機械研磨特性
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報酸化膜工程向けCMPスラリー『ILD(TM)シリーズ』
【ラインアップ】
■ILD3013
・主成分：ヒュームドシリカ
・ケミカル：アンモニア
・砥粒濃度(wt%)：13.7
・pH：10.5
・砥粒サイズ(nm)：85
■ILD3225
・主成分：ヒュームドシリカ
・ケミカル：KOH
・砥粒濃度(wt%)：25.7
・pH：11.0
・砥粒サイズ(nm)：85
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| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。 |
カタログ酸化膜工程向けCMPスラリー『ILD(TM)シリーズ』
取扱企業酸化膜工程向けCMPスラリー『ILD(TM)シリーズ』
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■電子工業、光学工業 及び、その他精密工業に使用される研磨用の 多孔材質、不織布、研磨剤及び研磨用化学液、並びに研磨用機械、 工具及び部品と各種測定機器の販売
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