サンユー電子株式会社 デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』
- 最終更新日：2024-11-07 13:57:53.0
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コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜の作製も可能
『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。
ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。
金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。
【特長】
■研究開発向けのデスクトップサイズ
■試料サイズ：最大φ2インチ
■膜厚センサー追加可能
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
基本情報デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』
【製品仕様】
スパッタ方式：RFマグネトロンスパッタ方式
カソード：φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ
スパッタ電源：RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付)
到達真空度：10^-4 Pa台
寸法：
SVC-700RFIII(制御ユニット)：W370×D310×H195mm
RF CONTROL UNIT：W370×D310×H158mm
チャンバーユニット：W370×D540×H400mm
所要電源：AC100V 50/60Hz 15A 1系統 3pinプラグ
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
| 価格帯 | 500万円 ~ 1000万円 |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 |
カタログデスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』
取扱企業デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』
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真空応用機器及び電子顕微鏡周辺機器の開発/設計/製造/販売
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