キヤノンアネルバ株式会社 プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』
- 最終更新日:2023-01-24 13:25:36.0
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真空チャンバの到達圧力から、スパッタプロセス圧力までの広範囲(1~80amu)かつ高感度で分圧測定を実現。
プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』は、測定質量範囲1~80amuであり、2.0Pa以下(差動排気系不要)の圧力から測定可能な四重極型質量分析計です。
プロセス中のガス分圧を監視し、プロセスガス異常・リークなどの不具合を検知し、プロセス安定性を提供いたします。
プロセス中の品質管理や残留ガス分析などにご活用ください。
【特長】
■プロセス中に高感度で水素を検出
■広い圧力領域を高感度で測定
■メンテナンスサイクルが長く、低ランニングコスト
■さまざまなアラーム機能により、生産中に異常を検出
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
資料内の動作圧力に関する記載が「1.3Pa以下」となっておりますが、正しくは「2.0Pa以下」となります。
基本情報プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』
【仕様(抜粋)】
■測定質量範囲:m/z 1~80
■動作圧力:2.0Pa 以下
■最小検知濃度:5ppm(H2 を除く)H2:100ppm
■SEM感度:7.5 × 10^-5 A/Pa 以上
■ファラディ感度 :7.5 × 10^-9 A/Pa 以上
■接続フランジ:φ 70ICF
■質量:分析管1.1kg コントローラー2.2kg
■通信規格:RS-232C または RS-485
■制御ソフトウェア:QUADVISION3 Win7、8.1、10 対応
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 【用途】 ■成膜中の品質管理 ■残留ガス分析 ■リークチェック ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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