パーク・システムズ・ジャパン株式会社 原子間力顕微鏡『Park NX-Wafer』
- 最終更新日:2021-05-20 16:42:33.0
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自動欠陥検査機能、低ノイズ、高スループット!正確な原子間力顕微鏡をご紹介!
『Park NX-Wafer』は、欠陥のイメージングと解析を完全自動で行う
AFM計測手法により、欠陥検査における生産性を1,000%向上する
原子間力顕微鏡です。
正確でハイスループットのCMPプロファイル測定のための低ノイズ
原子間力プロファイラー。
サブÅの表面粗さを極めて正確に測定し、チップ間のバラツキを最小化します。
【特長】
■欠陥のイメージングと解析を完全自動で行うAFMソリューション
■欠陥レビューにおける生産性を最大1000%向上
■低ノイズ原子間力プロファイラーで正確且つ高スループットなCMP計測を実現
■非常に正確で、チップーチップ間のバラツキも最小にしたサブÅ表面粗さ計測
■原子間力プロファイラー
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報原子間力顕微鏡『Park NX-Wafer』
【仕様】
■システム仕様:電動XYステージ
・200 mm:駆動 275 mm × 200 mm、分解能0.5 µm
・300 mm:駆動 375 mm × 300 mm、分解能0.5 µm
■XYスキャナ レンジ:シングルモジュールフレクチャー式クローズドループXYスキャナ
・100 µm × 100 µm (ラージモード)
・50 µm x 50 µm (ミデアムモード)
・10 µm × 10 µm (スモールモード)
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 【用途】 ■自動欠陥レビュー機能を備えた唯一のウェハー検査用AFM ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ原子間力顕微鏡『Park NX-Wafer』
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