『フォトニクス事業』※紫外域から赤外域まで対応！ HEF DURFERRIT JAPAN

幅広い光学薄膜ラインアップと高精度研磨・薄膜加工技術でご要望にお応え。各種光学素材の精密研磨や1.4m超の精密ミラーまで成膜可能

HEFグループは、新たにフォトニクスという戦略的分野に参入、
絶え間なく表面処理サイエンスの技術革新に貢献していきます。

ABRISA Technologies（米国カリフォルニア州）、 KERDRY（フランス）、
FICHOU（フランス）の3社を買収し、長年グループ内で培ってきた
専門知識（PVD/PECVD薄膜、フェムト秒レーザー、表面特性評価ノウハウ）が
この新たな分野でも活用できるに違いありません！

【特長】
■紫外域から赤外域まで対応
■各種光学素材の精密研磨（平面度λ/20）
■お客様のニーズに合わせて好適な薄膜設計からサポート
■微小チップから1.4m超の精密ミラーまで、成膜可能
■単品の試作でも大量生産でも対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - https://www.hef.fr/ja/hef-photonics-1213.html

基本情報『フォトニクス事業』※紫外域から赤外域まで対応！

【ラインアップ】
■反射鏡
■反射防止膜
■光吸収膜
■ダイクロイックミラー
■NDフィルター
■透明導電膜
■コールド/ ホットミラー
■ビームスプリッター

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯	お問い合わせください
納期	お問い合わせください
用途／実績例	※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。