RIBER社で開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。
特徴
1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能
2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。
3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。
4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100Hz)を実現
5) AlGaAs/GaAsなどの低格子不整合材料系にも対応可能
6) 数mmまでの厚膜ウェハに対応可能
7) 高い安定性とアライメントフリー測定を実現
8) 白色光源の採用、反射率の変化に影響無し、露光時間の調整が不要。
9) ウェーハの平坦性に影響せず、パターニングされたウェーハでも測定可能
10) 他のソフトウェアとデータを共有可能。
仕様
1) 曲率測定レンジ 0.0008～200,000 Km-1
2) 半径レンジ（Max-Min）1,250,000～0.005m
基本情報RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター
RIBER社（フランス）は、1964年に設立された分子線エピタキシャル成長装置（MBE装置）およびコンポーネント（MBEセル・蒸着源）を製造・販売する世界シェアNo.1のサプライヤーです。主にGaAsやInP、GaN等の化合物半導体材料の成膜用途として累計約800台の装置を世に送り出してきました。現在、世界の主要大学や公的研究機関、デバイスメーカー、エピファウンドリー各社がRIBER社のMBE装置を運用しており、データ通信、5G/6G、VCSELレーザー、フォトニクス、センサー、3Dセンシングなど様々な最先端分野の研究または生産ツールとして貢献しています。
日本国内では、伯東株式会社が総代理店として、同社製品の販売と保守サービスを提供しております。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 用途／実績例 | 【用途】 ・ ウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精度測定必要な各種真空装置 【実績例】 ・ 材料組成比算出 ・ 多層膜レイヤーの連続曲率(応力)観察→成長パラメータのずれ補正値の推定 ・ 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 ・応力緩和状態のリアルタイム観察 ・歪補正算出 |
カタログRIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター
取扱企業RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター
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