RIBER社 EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

RIBER社で開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。
特徴
1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能
2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。
3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。
4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100Hz)を実現
5) AlGaAs/GaAsなどの低格子不整合材料系にも対応可能
6) 数mmまでの厚膜ウェハに対応可能
7) 高い安定性とアライメントフリー測定を実現
8) 白色光源の採用、反射率の変化に影響無し、露光時間の調整が不要。
9) ウェーハの平坦性に影響せず、パターニングされたウェーハでも測定可能
10) 他のソフトウェアとデータを共有可能。

仕様
1) 曲率測定レンジ　0.0008～200,000 Km-1
2) 半径レンジ（Max-Min）1,250,000～0.005m （詳細を見る）

分子線を作り出すMBEセルは、エピタキシャル膜の品質（均一性・組成・純度・モフォロジーなど）を左右する最も重要なコンポーネントです。RIBER社では、材料特性や用途に合わせて豊富なラインナップを用意しています。RIBERオリジナル装置のみならず、ありとあらゆるMBE装置の仕様に合わせてカスタマイズ提案が可能です。

・標準型クヌーセンセル
・ヒ素、リン、アンチモン向けバルブドクラッカーセル
・大容量・高安定性ガリウム、インジウムセル
・窒化物向け高耐性エフュージョンセル
・特殊用途セル（高温セル、昇華型カーボンセル）
・窒素、酸素RFプラズマ源
・高温・低温ガスインジェクター （詳細を見る）

Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-situ温度モニターは高精度、高安定性を有する業界最高レベルの温度モニターです。
(1) 圧倒的な温度制御の精度と正確さ
(2) メンテナンス後のキャリブレーション時間を短縮
(3) Run to Runの再現性が向上
(4) 様々なアプリケーションに役立つ単波長および二波長反射率オプション
標準波長：930nm, オプション波長：530nm, 1550nm シングル波長、二波長共に対応可能。
(5) 広範囲の温度計測可能（Max 1800℃） （詳細を見る）